摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第9-17页 |
1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第9-10页 |
1.2 硬盘的主要组成结构 | 第10-12页 |
1.3 提高存储密度的相关技术 | 第12-14页 |
1.3.1 改进磁盘的结构 | 第12-13页 |
1.3.2 改进磁头结构 | 第13-14页 |
1.4 磁头磁盘界面润滑膜国内外研究现状 | 第14-16页 |
1.4.1 国外研究现状 | 第14-15页 |
1.4.2 国内研究现状 | 第15-16页 |
1.5 本文研究的主要内容 | 第16-17页 |
第2章 膜厚变化理论模型的建立及求解 | 第17-29页 |
2.1 修正雷诺方程的推导 | 第17-19页 |
2.2 空气动压作用下的膜厚变化方程 | 第19-24页 |
2.3 热源作用下的膜厚变化方程 | 第24-27页 |
2.4 膜厚变化方程的求解 | 第27-28页 |
2.5 本章小结 | 第28-29页 |
第3章 空气动压作用下润滑膜流动特性分析 | 第29-42页 |
3.1 润滑剂流动模型的建立及求解 | 第29-33页 |
3.2 空气动压作用下润滑剂流动主要影响因素分析 | 第33-36页 |
3.3 工作参数参数对于润滑剂流动的影响分析 | 第36-41页 |
3.3.1 初始膜厚的影响 | 第36-37页 |
3.3.2 磁头飞高的影响 | 第37-39页 |
3.3.3 磁盘转速的影响 | 第39-41页 |
3.4 本章小结 | 第41-42页 |
第4章 热源作用下润滑剂损耗特性分析 | 第42-57页 |
4.1 基于 HAMR 技术的润滑剂损耗模型建立及求解 | 第42-47页 |
4.2 热源作用下润滑剂损耗主要影响因素分析 | 第47-50页 |
4.3 工作参数对于润滑剂损耗的影响分析 | 第50-56页 |
4.3.1 初始膜厚的影响 | 第50-52页 |
4.3.2 激光功率的影响 | 第52-53页 |
4.3.3 激光光斑半径的影响 | 第53-55页 |
4.3.4 润滑剂分子重量的影响 | 第55-56页 |
4.4 本章小结 | 第56-57页 |
第5章 润滑剂膜厚的恢复特性分析 | 第57-70页 |
5.1 润滑剂恢复模型的建立及求解 | 第57-61页 |
5.2 润滑剂膜厚恢复的主要因素分析 | 第61-63页 |
5.3 工作参数对于膜厚恢复的影响分析 | 第63-69页 |
5.3.1 初始膜厚的影响 | 第63-65页 |
5.3.2 环境温度的影响 | 第65-67页 |
5.3.3 极性端基的影响 | 第67-69页 |
5.4 本章小结 | 第69-70页 |
结论 | 第70-71页 |
参考文献 | 第71-76页 |
攻读硕士学位期间发表的论文 | 第76-78页 |
致谢 | 第78页 |