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磁头/磁盘界面薄膜润滑剂流动及损耗特性研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第1章 绪论第9-17页
    1.1 课题背景及研究的目的和意义第9-10页
    1.2 硬盘的主要组成结构第10-12页
    1.3 提高存储密度的相关技术第12-14页
        1.3.1 改进磁盘的结构第12-13页
        1.3.2 改进磁头结构第13-14页
    1.4 磁头磁盘界面润滑膜国内外研究现状第14-16页
        1.4.1 国外研究现状第14-15页
        1.4.2 国内研究现状第15-16页
    1.5 本文研究的主要内容第16-17页
第2章 膜厚变化理论模型的建立及求解第17-29页
    2.1 修正雷诺方程的推导第17-19页
    2.2 空气动压作用下的膜厚变化方程第19-24页
    2.3 热源作用下的膜厚变化方程第24-27页
    2.4 膜厚变化方程的求解第27-28页
    2.5 本章小结第28-29页
第3章 空气动压作用下润滑膜流动特性分析第29-42页
    3.1 润滑剂流动模型的建立及求解第29-33页
    3.2 空气动压作用下润滑剂流动主要影响因素分析第33-36页
    3.3 工作参数参数对于润滑剂流动的影响分析第36-41页
        3.3.1 初始膜厚的影响第36-37页
        3.3.2 磁头飞高的影响第37-39页
        3.3.3 磁盘转速的影响第39-41页
    3.4 本章小结第41-42页
第4章 热源作用下润滑剂损耗特性分析第42-57页
    4.1 基于 HAMR 技术的润滑剂损耗模型建立及求解第42-47页
    4.2 热源作用下润滑剂损耗主要影响因素分析第47-50页
    4.3 工作参数对于润滑剂损耗的影响分析第50-56页
        4.3.1 初始膜厚的影响第50-52页
        4.3.2 激光功率的影响第52-53页
        4.3.3 激光光斑半径的影响第53-55页
        4.3.4 润滑剂分子重量的影响第55-56页
    4.4 本章小结第56-57页
第5章 润滑剂膜厚的恢复特性分析第57-70页
    5.1 润滑剂恢复模型的建立及求解第57-61页
    5.2 润滑剂膜厚恢复的主要因素分析第61-63页
    5.3 工作参数对于膜厚恢复的影响分析第63-69页
        5.3.1 初始膜厚的影响第63-65页
        5.3.2 环境温度的影响第65-67页
        5.3.3 极性端基的影响第67-69页
    5.4 本章小结第69-70页
结论第70-71页
参考文献第71-76页
攻读硕士学位期间发表的论文第76-78页
致谢第78页

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