摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
1 绪论 | 第11-19页 |
1.1 引言 | 第11页 |
1.2 ZnO的晶体结构 | 第11-12页 |
1.3 ZnO的物理化学性质 | 第12-14页 |
1.3.1 透明导体特性 | 第12-13页 |
1.3.2 ZnO薄膜电学特性 | 第13页 |
1.3.3 ZnO薄膜的发光特性 | 第13页 |
1.3.4 ZnO薄膜压电、气敏和压敏特性 | 第13-14页 |
1.4 ZnO薄膜的制备方法 | 第14-16页 |
1.4.1 真空蒸发和分子束外延 | 第14-15页 |
1.4.2 金属有机化学气相沉积 | 第15页 |
1.4.3 溅射和反应溅射 | 第15-16页 |
1.4.4 脉冲激光沉积 | 第16页 |
1.4.5 溶胶-凝胶法 | 第16页 |
1.5 ZnO薄膜的研究进展及应用 | 第16-17页 |
1.6 本文的选题依据与研究意义 | 第17-19页 |
2 能量过滤磁控溅射技术及薄膜表征方法 | 第19-27页 |
2.1 能量过滤磁控溅射技术(EFMS) | 第19-21页 |
2.1.1 EFMS技术真空室内部结构及过滤电极结构 | 第19-20页 |
2.1.2 EFMS薄膜制备技术 | 第20-21页 |
2.2 EFMS技术已取得的研究结果 | 第21-23页 |
2.3 ZnO薄膜的表征手段 | 第23-27页 |
2.3.1 ZnO薄膜的结构与物相表征 | 第23-24页 |
2.3.2 ZnO薄膜的表面形貌表征 | 第24-25页 |
2.3.3 ZnO薄膜的光学性能表征 | 第25-27页 |
3 沉积条件对ZnO薄膜结晶取向及光学性能影响 | 第27-49页 |
3.1 沉积温度对ZnO薄膜结构和光学性能的影响 | 第27-34页 |
3.1.1 ZnO薄膜的制备 | 第27页 |
3.1.2 ZnO薄膜结构分析 | 第27-29页 |
3.1.3 ZnO表面形貌分析 | 第29-30页 |
3.1.4 ZnO薄膜光学性能分析 | 第30-34页 |
3.1.5 小结 | 第34页 |
3.2 沉积压强对ZnO薄膜结构和光学性能的影响 | 第34-41页 |
3.2.1 ZnO薄膜的制备 | 第34-35页 |
3.2.2 ZnO薄膜结构分析 | 第35-37页 |
3.2.3 ZnO薄膜表面形貌分析 | 第37-38页 |
3.2.4 ZnO薄膜光学性能分析 | 第38-41页 |
3.2.5 小结 | 第41页 |
3.3 氧氩比对ZnO薄膜结构和光学性能的影响 | 第41-49页 |
3.3.1 ZnO薄膜的制备 | 第41-42页 |
3.3.2 ZnO薄膜结构分析 | 第42-43页 |
3.3.3 ZnO薄膜表面形貌分析 | 第43-44页 |
3.3.4 ZnO薄膜光学性能分析 | 第44-48页 |
3.3.5 小结 | 第48-49页 |
4 衬底晶面对ZnO薄膜结晶取向及光学性能影响 | 第49-70页 |
4.1 沉积温度对a面(11-20)蓝宝石上生长的ZnO薄膜性能影响 | 第50-56页 |
4.1.1 ZnO薄膜的制备 | 第50页 |
4.1.2 ZnO薄膜结构分析 | 第50-51页 |
4.1.3 ZnO薄膜表面形貌分析 | 第51-52页 |
4.1.4 ZnO薄膜光学性能分析 | 第52-56页 |
4.1.5 小结 | 第56页 |
4.2 沉积温度对c面(0001)蓝宝石上生长的ZnO薄膜性能影响 | 第56-62页 |
4.2.1 ZnO薄膜的制备 | 第56-57页 |
4.2.2 ZnO薄膜结构分析 | 第57-58页 |
4.2.3 ZnO表面形貌分析 | 第58页 |
4.2.4 ZnO薄膜光学性能分析 | 第58-62页 |
4.2.5 小结 | 第62页 |
4.3 氧氩比对m面(10-10)蓝宝石上生长的ZnO薄膜性能影响 | 第62-70页 |
4.3.1 ZnO薄膜的制备 | 第62-63页 |
4.3.2 ZnO薄膜结构分析 | 第63-65页 |
4.3.3 ZnO表面形貌分析 | 第65页 |
4.3.4 ZnO薄膜光学性能分析 | 第65-69页 |
4.3.5 小结 | 第69-70页 |
5 总结与展望 | 第70-73页 |
5.1 总结 | 第70-72页 |
5.2 展望 | 第72-73页 |
参考文献 | 第73-77页 |
致谢 | 第77-78页 |
个人简历 | 第78页 |