| 中文摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 中英文缩略词对照表 | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-16页 |
| 1.1 正畸间隙的来源 | 第9-14页 |
| 1.2 有限元分析法在口腔正畸中的应用 | 第14-15页 |
| 1.3 研究目的及意义 | 第15-16页 |
| 第二章 微种植体支抗远中移动下颌牙齿有限元模型的建立 | 第16-24页 |
| 2.1 材料与方法 | 第16-23页 |
| 2.1.1 材料 | 第16页 |
| 2.1.2 样本选择 | 第16页 |
| 2.1.3 扫描CT获得初始模型数据 | 第16页 |
| 2.1.4 下颌骨、下颌牙齿以及下颌牙周膜模型的建立 | 第16-18页 |
| 2.1.5 托槽、弓丝及微种植体模型的建立 | 第18页 |
| 2.1.6 模型组装,生成CAD模型 | 第18-19页 |
| 2.1.7 设定材料参数 | 第19-20页 |
| 2.1.8 网格划分 | 第20页 |
| 2.1.9 定义材料接触关系 | 第20页 |
| 2.1.10 建立坐标,生成CAE模型 | 第20-22页 |
| 2.1.11 定义负载方式 | 第22页 |
| 2.1.12 确定位移评估标记点 | 第22-23页 |
| 2.2 结果 | 第23-24页 |
| 第三章 微种植体支抗远中移动下颌牙齿的三维有限元分析 | 第24-40页 |
| 3.1 使用150g力远移下颌第二磨牙的三维有限元分析 | 第24-27页 |
| 3.1.1 负载方式 | 第24页 |
| 3.1.2 观察分析指标 | 第24页 |
| 3.1.3 实验结果 | 第24-27页 |
| 3.2 下颌尖牙至第二磨牙组牙远移的三维有限元分析 | 第27-36页 |
| 3.2.1 负载方式 | 第27页 |
| 3.2.2 观察分析指标 | 第27页 |
| 3.2.3 下颌尖牙的初始位移 | 第27-29页 |
| 3.2.4 下颌第一前磨牙的初始位移 | 第29-30页 |
| 3.2.5 下颌第二前磨牙的初始位移 | 第30-32页 |
| 3.2.6 下颌第一磨牙的初始位移 | 第32-33页 |
| 3.2.7 下颌第二磨牙的初始位移 | 第33-35页 |
| 3.2.8 下颌各个牙齿的牙周膜最大Von-mises等效应力 | 第35-36页 |
| 3.2.9 平面的变化 | 第36页 |
| 3.3 下颌第二磨牙位移趋势的对比 | 第36-37页 |
| 3.4 讨论 | 第37-40页 |
| 3.4.1 磨牙远移的垂直向变化 | 第37-38页 |
| 3.4.2 正畸矫治力 | 第38-39页 |
| 3.4.3 微种植体支抗应用存在的问题 | 第39-40页 |
| 第四章 全文小结 | 第40-41页 |
| 参考文献 | 第41-45页 |
| 在学期间的成果 | 第45-46页 |
| 致谢 | 第46-47页 |
| 临床病例展示 | 第47-71页 |
