首页--数理科学和化学论文--物理学论文--固体物理学论文--薄膜物理学论文--薄膜的生长、结构和外延论文

射频磁控溅射制备AlN薄膜及其性能研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第一章 绪论第10-33页
    1.1 AlN的结构、性能与应用第10-15页
        1.1.1 AlN的晶体结构第10-11页
        1.1.2 AlN薄膜的性能第11-13页
        1.1.3 AlN薄膜的应用领域第13-15页
    1.2 射频磁控溅射法制备AlN薄膜的原理第15-21页
        1.2.1 AlN薄膜的制备方法简介第15-16页
        1.2.2 溅射现象及溅射机理第16-17页
        1.2.3 常见的溅射技术第17-21页
            1.2.3.1 直流溅射第17-19页
            1.2.3.2 射频(RF)溅射第19-20页
            1.2.3.3 磁控溅射第20-21页
            1.2.3.4 反应磁控溅射第21页
    1.3 AlN薄膜择优取向生长机理第21-23页
        1.3.1 关于AlN薄膜取向生长机理的两种观点第21-23页
        1.3.2 关于AlN薄膜取向生长机理的分析第23页
    1.4 磁控溅射法影响AlN薄膜质量的工艺因素第23-27页
        1.4.1 溅射气压第23-24页
        1.4.2 溅射功率第24页
        1.4.3 基体温度第24-26页
        1.4.4 氮气浓度第26-27页
        1.4.5 靶基距第27页
    1.5 AlN薄膜的应用及其国内外研究进展第27-31页
        1.5.1 压电领域第27-29页
        1.5.2 光学领域第29-30页
        1.5.3 力学领域第30-31页
    1.6 本课题的研究意义及研究内容第31-33页
第二章 AlN薄膜的制备及表征方法第33-43页
    2.1 AlN薄膜的制备第33-36页
        2.1.1 实验设备第33-34页
        2.1.2 靶材与基体材料第34页
        2.1.3 基本研究路线第34-35页
        2.1.4 实验主要工艺参数第35-36页
        2.1.5 基体预处理第36页
    2.2 AlN薄膜的表征与性能测试第36-43页
        2.2.1 X射线衍射(XRD)第36-37页
        2.2.2 扫描电子显微镜(SEM)第37-38页
        2.2.3 原子力显微镜(AFM)第38-39页
        2.2.4 X射线光电子能谱(XPS)第39-40页
        2.2.5 纳米压痕测试第40-43页
第三章 工艺参数对AlN薄膜的影响第43-77页
    3.1 溅射气压对AlN薄膜结构与性能的影响第43-56页
        3.1.1 溅射气压对AlN薄膜沉积速率的影响第43-44页
        3.1.2 溅射气压对AlN薄膜结晶取向的影响第44-46页
        3.1.3 溅射气压对AlN薄膜表面形貌的影响第46-47页
        3.1.4 溅射气压对AlN薄膜成分的影响第47-54页
        3.1.5 溅射气压对AlN薄膜力学性能的影响第54-56页
    3.2 基体温度对AlN薄膜结构与性能的影响第56-66页
        3.2.1 基体温度对AlN薄膜沉积速率的影响第56-57页
        3.2.2 基体温度对AlN薄膜结晶取向的影响第57-58页
        3.2.3 基体温度对AlN薄膜表面形貌的影响第58-60页
        3.2.4 基体温度对AlN薄膜成分的影响第60-65页
        3.2.5 基体温度对AlN薄膜力学性能的影响第65-66页
    3.3 氮气含量对AlN薄膜结构与性能的影响第66-72页
        3.3.1 氮气含量对AlN薄膜沉积速率的影响第67页
        3.3.2 氮气含量对AlN薄膜结晶取向的影响第67-69页
        3.3.3 氮气含量对AlN薄膜表面形貌的影响第69-71页
        3.3.4 氮气含量对AlN薄膜力学性能的影响第71-72页
    3.4 靶基距对AlN薄膜结构与性能的影响第72-77页
        3.4.1 靶基距对AlN薄膜沉积速率的影响第72-73页
        3.4.2 靶基距对AlN薄膜结晶取向的影响第73-74页
        3.4.3 靶基距对AlN薄膜表面形貌的影响第74-76页
        3.4.4 靶基距对AlN薄膜力学性能的影响第76-77页
第四章 结论与展望第77-79页
参考文献第79-87页
攻读学位期间主要的研究成果第87-88页
致谢第88页

论文共88页,点击 下载论文
上一篇:瞬变电磁探测系统的GPS时钟同步研究与应用
下一篇:中国国内会计师事务所执业质量控制研究