| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 1 绪论 | 第12-24页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·多弧离子镀技术概述 | 第12-15页 |
| ·多弧离子镀原理 | 第12-13页 |
| ·多弧离子镀技术特点 | 第13-14页 |
| ·多弧离子镀技术的应用 | 第14-15页 |
| ·薄膜形成原理 | 第15-16页 |
| ·氮化物膜层发展概述 | 第16-21页 |
| ·单组元反应膜 | 第16-17页 |
| ·多组元反应膜 | 第17-19页 |
| ·多层反应膜 | 第19-21页 |
| ·梯度反应膜 | 第21页 |
| ·本课题的提出 | 第21-22页 |
| ·本课题的执行技术路线 | 第22-24页 |
| 2 试验材料与试验方法 | 第24-30页 |
| ·试验基体材料的选取及预处理 | 第24-25页 |
| ·基体材料的选取 | 第24-25页 |
| ·基体材料表面预处理 | 第25页 |
| ·合金靶材成分 | 第25页 |
| ·镀膜设备简介 | 第25-26页 |
| ·膜层性能检测方法 | 第26-30页 |
| ·表面显微硬度检测方法 | 第26-27页 |
| ·膜/基附着力检测方法 | 第27-28页 |
| ·显微组织及相结构的检测及分析方法 | 第28页 |
| ·摩擦磨损性能测试方法 | 第28-29页 |
| ·抗热震性能测试方法 | 第29-30页 |
| 3 试验工艺设计 | 第30-36页 |
| ·试验沉积参数 | 第30-33页 |
| ·基体负偏压 | 第30-31页 |
| ·靶源电流 | 第31-32页 |
| ·反应气体压强 | 第32页 |
| ·试样温度 | 第32页 |
| ·反应室真空度 | 第32-33页 |
| ·试样旋转速度 | 第33页 |
| ·沉积时间 | 第33页 |
| ·试验方法及沉积工艺设计 | 第33-36页 |
| 4 膜层显微组织及相组成 | 第36-50页 |
| ·膜层表面及断口组织形貌 | 第36-40页 |
| ·膜层表面形貌 | 第36-38页 |
| ·膜层断口组织形貌 | 第38-40页 |
| ·膜层表面及截面成分分析 | 第40-44页 |
| ·膜层表面成分分析 | 第40-42页 |
| ·膜层截面成分分析 | 第42-44页 |
| ·膜层相结构分析 | 第44-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 5 膜层力学性能测试与分析 | 第50-78页 |
| ·膜层显微硬度 | 第50-52页 |
| ·膜层膜/基附着力 | 第52-56页 |
| ·膜层抗热震性能 | 第56-61页 |
| ·热震试验 | 第56页 |
| ·膜层热震试验结果 | 第56-61页 |
| ·膜层摩擦磨损性能 | 第61-77页 |
| ·试验方法 | 第62-65页 |
| ·载荷对膜层摩擦磨损性能的影响 | 第65-68页 |
| ·时间对膜层摩擦磨损性能的影响 | 第68-71页 |
| ·不同试验工艺所制备的膜层在室温、高温下的摩擦磨损性能及对比分析 | 第71-77页 |
| ·本章小结 | 第77-78页 |
| 6 结论 | 第78-80页 |
| 参考文献 | 第80-88页 |
| 在学期间研究成果 | 第88-90页 |
| 致谢 | 第90页 |