| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 太赫兹技术研究背景 | 第10-12页 |
| 1.2 太赫兹调制器的研究与发展 | 第12-21页 |
| 1.2.1 半导体调制 | 第12-14页 |
| 1.2.2 微纳结构调制 | 第14-16页 |
| 1.2.3 石墨烯调制 | 第16-19页 |
| 1.2.4 石墨烯和微纳结构结合调制 | 第19-21页 |
| 1.3 本论文的选题和研究内容 | 第21-22页 |
| 第二章 石墨烯和微纳结构的性质研究与理论分析 | 第22-36页 |
| 2.1 石墨烯的概念 | 第22-31页 |
| 2.1.1 石墨烯的性质 | 第22-24页 |
| 2.1.2 石墨烯的电导理论 | 第24-27页 |
| 2.1.3 石墨烯的理论研究方法 | 第27-31页 |
| 2.2 微纳结构的概念 | 第31-35页 |
| 2.2.1 微纳结构的性质 | 第31-32页 |
| 2.2.2 微纳结构的理论研究方法 | 第32-35页 |
| 2.3 本章小结 | 第35-36页 |
| 第三章 微纳结构增强的石墨烯太赫兹调制器的设计方法 | 第36-52页 |
| 3.1 基于石墨烯的反射型相位调制器的仿真设计 | 第36-41页 |
| 3.1.1 反射型相位调制器的结构设计 | 第36-37页 |
| 3.1.2 反射型相位调制器的模拟结果 | 第37-39页 |
| 3.1.3 反射型相位调制器的理论分析 | 第39-41页 |
| 3.2 基于石墨烯的透过型幅度调制器的分析与设计 | 第41-51页 |
| 3.2.1 透过型调制器的结构设计 | 第41-42页 |
| 3.2.2 透过型调制器的等效电路模型 | 第42-49页 |
| 3.2.3 透过型调制器的理论分析 | 第49-51页 |
| 3.3 本章小结 | 第51-52页 |
| 第四章 微纳结构增强石墨烯的太赫兹调制器的制备工艺研究 | 第52-60页 |
| 4.1 调制器的制备流程 | 第52-53页 |
| 4.2 微纳结构的制备工艺研究 | 第53-54页 |
| 4.2.1 传统微纳结构制备工艺 | 第53页 |
| 4.2.2 薄膜型微纳结构的制备 | 第53-54页 |
| 4.3 介质层的制备工艺研究 | 第54-56页 |
| 4.3.1 介质层的选择 | 第54-55页 |
| 4.3.2 介质层的制备 | 第55-56页 |
| 4.4 电极的制作方法 | 第56页 |
| 4.5 石墨烯的转移工艺研究 | 第56-58页 |
| 4.5.1 石墨烯的选择 | 第57页 |
| 4.5.2 石墨烯的转移 | 第57-58页 |
| 4.6 本章小结 | 第58-60页 |
| 第五章 太赫兹调制器的测试系统和实验方法 | 第60-66页 |
| 5.1 太赫兹调制器的测试系统 | 第60-62页 |
| 5.1.1 太赫兹调制器的测试系统的搭建 | 第60-61页 |
| 5.1.2 太赫兹调制器的实验测试和方法 | 第61-62页 |
| 5.2 基于石墨烯微纳结构的太赫兹调制器的实验分析 | 第62-65页 |
| 5.2.1 太赫兹调制器的静态特征分析 | 第62-64页 |
| 5.2.2 太赫兹调制器的动态特征分析 | 第64-65页 |
| 5.3 本章小结 | 第65-66页 |
| 第六章 总结和展望 | 第66-68页 |
| 6.1 总结 | 第66-67页 |
| 6.2 展望 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-71页 |
| 攻读硕/博士期间取得的研究成果 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72页 |
