物理气相沉积镀膜机器关键零部件设计与分析
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-13页 |
| 1.1 课题研究背景与意义 | 第9页 |
| 1.2 PVD镀膜设备的研究现状与发展趋势 | 第9-12页 |
| 1.3 课题研究目标及研究的主要内容 | 第12-13页 |
| 第二章 物理气相沉积镀膜室结构设计计算与分析 | 第13-26页 |
| 2.1 PVD镀膜室的结构设计 | 第13-15页 |
| 2.2 PVD镀膜室封头的壁厚计算 | 第15页 |
| 2.3 PVD真空镀膜室模态分析 | 第15-22页 |
| 2.3.1 模态分析基本理论 | 第15-17页 |
| 2.3.2 镀膜真空室模态分析 | 第17-22页 |
| 2.4 PVD真空镀膜室静力分析 | 第22-24页 |
| 2.5 本章小结 | 第24-26页 |
| 第三章 物理气相沉积镀膜机工件架结构分析 | 第26-36页 |
| 3.1 PVD镀膜机工件架结构分析 | 第26页 |
| 3.2 主要约束参数 | 第26-27页 |
| 3.3 部件设计分析 | 第27-29页 |
| 3.3.1 行星轮组件 | 第27-28页 |
| 3.3.2 负偏压部件确认 | 第28-29页 |
| 3.4 工件架部件子系统的研究与设计 | 第29-33页 |
| 3.4.1 电机的选型 | 第29-33页 |
| 3.4.2 大齿轮与行星齿轮的设计 | 第33页 |
| 3.5 工件架3D组装设计 | 第33-35页 |
| 3.6 本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章 矩形、旋转圆柱磁控溅射靶设计及磁场模拟 | 第36-59页 |
| 4.1 矩形直流磁控溅射靶设计与磁场模拟 | 第36-50页 |
| 4.1.1 磁控溅射靶结构设计 | 第36-46页 |
| 4.1.2 磁控溅射靶磁力模拟与分析 | 第46-49页 |
| 4.1.3 矩形直流磁控溅射靶实体 | 第49-50页 |
| 4.2 旋转圆柱磁控溅射阴极设计与磁场分析 | 第50-57页 |
| 4.2.1 旋转圆柱磁控溅射阴极结构分析 | 第50-51页 |
| 4.2.2 旋转圆柱磁控溅射靶磁场模拟 | 第51-54页 |
| 4.2.3 旋转圆柱磁控溅射靶实体 | 第54-55页 |
| 4.2.4 试验操作 | 第55-57页 |
| 4.3 本章小结 | 第57-59页 |
| 第五章 离子源结构设计与磁场模拟分析 | 第59-71页 |
| 5.1 矩形气体离子源 | 第59-60页 |
| 5.1.1 技术条件 | 第59页 |
| 5.1.2 离子源设计 | 第59-60页 |
| 5.2 离子源磁场设计优化 | 第60-65页 |
| 5.2.1 离子源磁场设计 | 第60-62页 |
| 5.2.2 离子源磁场模拟分析 | 第62-63页 |
| 5.2.3 离子源磁场优化 | 第63-65页 |
| 5.3 离子源实体 | 第65-66页 |
| 5.4 类金刚石膜制备 | 第66-67页 |
| 5.5 离子源试验 | 第67-69页 |
| 5.5.1 试验材料 | 第67页 |
| 5.5.2 实验步骤与结果 | 第67-69页 |
| 5.6 小结 | 第69-71页 |
| 第六章 总结与展望 | 第71-73页 |
| 6.1 主要结论 | 第71-72页 |
| 6.2 前景展望 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-78页 |
| 攻读学位期间本人出版或公开发表的论著、论文 | 第78页 |
