纳米级氧化铟锡前驱物浆料制备及ITO涂敷成膜机理
| 学位论文数据集 | 第3-4页 |
| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第15-33页 |
| 1.1 氧化铟锡透明导电薄膜的研究和发展概述 | 第15-31页 |
| 1.1.1 透明导电氧化物薄膜概述 | 第15-18页 |
| 1.1.2 ITO的结构与光电机理 | 第18-20页 |
| 1.1.3 胶体稳定机理 | 第20-24页 |
| 1.1.4 氧化铟锡透明导电薄膜的制备方法 | 第24-28页 |
| 1.1.5 ITO薄膜的产业化应用 | 第28-29页 |
| 1.1.6 国内外研究现状及发展趋势 | 第29-31页 |
| 1.2 课题研究的意义与内容 | 第31-33页 |
| 1.2.1 课题研究的意义 | 第31-32页 |
| 1.2.2 课题研究的内容 | 第32-33页 |
| 第二章 ITO前驱物浆料的制备及性能 | 第33-47页 |
| 2.1 实验原料和仪器 | 第33-34页 |
| 2.2 实验方法 | 第34-35页 |
| 2.3 实验过程 | 第35-37页 |
| 2.4 ITO前驱物浆料的表征方法 | 第37页 |
| 2.4.1 稳定性分析 | 第37页 |
| 2.4.2 形貌观察 | 第37页 |
| 2.4.3 物相分析 | 第37页 |
| 2.5 ITO前驱物浆料的性能 | 第37-46页 |
| 2.5.1 ITO前驱物浆料的稳定性 | 第37-43页 |
| 2.5.2 ITO前驱物浆料中分散剂的分散作用 | 第43-45页 |
| 2.5.3 陈化时间对ITO前驱物浆料的影响 | 第45-46页 |
| 2.6 本章小结 | 第46-47页 |
| 第三章 ITO薄膜的涂敷工艺 | 第47-54页 |
| 3.1 ITO薄膜的涂敷工艺简述 | 第47-48页 |
| 3.2 实验原料与仪器 | 第48页 |
| 3.3 实验过程 | 第48-50页 |
| 3.3.1 衬底材料的预处理 | 第48-49页 |
| 3.3.2 涂敷工艺条件 | 第49-50页 |
| 3.4 ITO薄膜的表征方法 | 第50页 |
| 3.5 涂敷工艺对ITO薄膜光电性能的影响 | 第50-53页 |
| 3.5.1 涂敷层数对ITO薄膜光电性能的影响 | 第50-51页 |
| 3.5.2 提拉速度对ITO薄膜光电性能的影响 | 第51-53页 |
| 3.6 本章小结 | 第53-54页 |
| 第四章 ITO薄膜的热处理工艺 | 第54-63页 |
| 4.1 ITO薄膜的热处理工艺简述 | 第54页 |
| 4.2 实验条件 | 第54-55页 |
| 4.3 ITO薄膜的表征方法 | 第55页 |
| 4.3.1 物相分析 | 第55页 |
| 4.3.2 光电学性能分析 | 第55页 |
| 4.3.3 形貌观察 | 第55页 |
| 4.4 不同Sn掺杂量的ITO薄膜的性能 | 第55-57页 |
| 4.4.1 物相分析 | 第56页 |
| 4.4.2 Sn掺杂量对薄膜光电性能的影响 | 第56-57页 |
| 4.5 热处理工艺对ITO薄膜性能的影响 | 第57-62页 |
| 4.5.1 ITO薄膜的晶体结构分析 | 第57-59页 |
| 4.5.2 薄膜表面形貌分析 | 第59-60页 |
| 4.5.3 升温速率对ITO薄膜电学性能的影响 | 第60页 |
| 4.5.4 热处理温度对ITO薄膜电学性能的影响 | 第60-61页 |
| 4.5.5 热处理时间对ITO薄膜电学性能的影响 | 第61-62页 |
| 4.6 本章小结 | 第62-63页 |
| 第五章 结论 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第71-72页 |
| 作者和导师简介 | 第72页 |
