| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 二维材料的研究背景与进展 | 第9-11页 |
| 1.1.1 二维材料的研究历史 | 第9-10页 |
| 1.1.2 二维材料的发展趋势 | 第10页 |
| 1.1.3 二维复合材料 | 第10-11页 |
| 1.2 二维材料锡烯概述 | 第11-12页 |
| 1.2.1 锡烯的结构 | 第11-12页 |
| 1.2.2 锡烯的性质 | 第12页 |
| 1.3 二维材料硫化钼概述 | 第12-15页 |
| 1.3.1 硫化钼的结构 | 第12-13页 |
| 1.3.2 硫化钼的性质 | 第13-14页 |
| 1.3.3 单层硫化钼 | 第14-15页 |
| 1.4 本论文的研究目的及意义 | 第15页 |
| 1.5 本论文的结构安排 | 第15-17页 |
| 第二章 基础理论和模拟计算 | 第17-24页 |
| 2.1 密度泛函理论基础 | 第17-22页 |
| 2.1.1 Hohenberg-Kohn定理 | 第18-19页 |
| 2.1.2 Kohn-Sham方程 | 第19页 |
| 2.1.3 交换关联泛函 | 第19-20页 |
| 2.1.4 基组的选取 | 第20-21页 |
| 2.1.5 赝势方法 | 第21-22页 |
| 2.2 模拟及计算方法简介 | 第22-23页 |
| 2.3 本章小结 | 第23-24页 |
| 第三章 锡烯/硫化钼复合材料的结构特性 | 第24-29页 |
| 3.1 锡烯/硫化钼复合材料的结构模型 | 第24-26页 |
| 3.2 锡烯/硫化钼复合材料的差分电荷密度 | 第26-27页 |
| 3.3 锡烯/硫化钼复合材料的层间距离 | 第27-28页 |
| 3.4 本章小结 | 第28-29页 |
| 第四章 锡烯/硫化钼复合材料的电子特性 | 第29-32页 |
| 4.1 单层硫化钼的电子特性 | 第29-30页 |
| 4.2 锡烯的电子特性 | 第30页 |
| 4.3 锡烯/硫化钼复合材料的电子特性 | 第30-31页 |
| 4.4 本章小结 | 第31-32页 |
| 第五章 锡烯/硫化钼复合材料电子结构的调制 | 第32-38页 |
| 5.1 等轴应力对锡烯/硫化钼复合材料电子结构的调制 | 第32-34页 |
| 5.2 垂直电场对锡烯/硫化钼复合材料电子结构的调制 | 第34页 |
| 5.3 应力和电场同时对锡烯/硫化钼复合材料电子结构的调制 | 第34-36页 |
| 5.4 本章小结 | 第36-38页 |
| 第六章 总结与展望 | 第38-40页 |
| 参考文献 | 第40-45页 |
| 致谢 | 第45-46页 |
| 攻读硕士期间发表论文情况 | 第46页 |
