石墨烯及其卤化物的合成与应用
中文摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第10-26页 |
1.1 石墨烯的结构与性质 | 第10-13页 |
1.1.1 石墨烯的电学性质 | 第11-12页 |
1.1.2 石墨烯的力学性质 | 第12页 |
1.1.3 石墨烯的热学性能 | 第12-13页 |
1.1.4 石墨烯的光学性能 | 第13页 |
1.2 石墨烯的应用 | 第13-19页 |
1.2.1 传感器 | 第13-14页 |
1.2.2 透明电极 | 第14-16页 |
1.2.3 能源与催化 | 第16-19页 |
1.3 从石墨烯到卤化石墨烯 | 第19-24页 |
1.3.1 卤化石墨烯的合成 | 第20-22页 |
1.3.2 卤化石墨烯的应用 | 第22-24页 |
1.4 本课题的研究内容和意义 | 第24-26页 |
第二章 氟化石墨烯的合成及含氟量控制 | 第26-40页 |
2.1 引言 | 第26页 |
2.2 实验 | 第26-28页 |
2.2.1 实验材料 | 第26-27页 |
2.2.2 合成不同氟含量的FG | 第27-28页 |
2.2.3 实验仪器 | 第28页 |
2.3 结果与讨论 | 第28-38页 |
2.3.1 FG的形貌 | 第28-30页 |
2.3.2 不同含氟量的FG的结构 | 第30-36页 |
2.3.3 FG中F化学位置的研究 | 第36-38页 |
2.4 小结 | 第38-40页 |
第三章 氟化石墨烯在气体传感器中的应用 | 第40-48页 |
3.1 引言 | 第40-41页 |
3.2 实验 | 第41-42页 |
3.2.1 实验材料 | 第41页 |
3.2.2 制作FG气体传感器 | 第41-42页 |
3.2.3 实验仪器 | 第42页 |
3.3 结果与讨论 | 第42-46页 |
3.3.1 单层FG与本征石墨烯对NH3的响应 | 第42-46页 |
3.4 小结 | 第46-48页 |
第四章 一步法合成氯掺杂单层石墨烯 | 第48-55页 |
4.1 引言 | 第48页 |
4.2 实验 | 第48-50页 |
4.2.1 实验材料 | 第48-49页 |
4.2.2 合成不同氯含量的Cl-G | 第49-50页 |
4.2.3 实验仪器 | 第50页 |
4.3 结果与讨论 | 第50-54页 |
4.3.1 Cl-G的合成原理 | 第50-51页 |
4.3.2 Cl-G的形貌及结构 | 第51-52页 |
4.3.3 不同含氯量Cl-G的化学键结构 | 第52-54页 |
4.4 小结 | 第54-55页 |
结论 | 第55-57页 |
参考文献 | 第57-71页 |
攻读学位期间本人出版或公开发表的论著、论文 | 第71-72页 |
致谢 | 第72-73页 |