| 致谢 | 第4-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 1 引言 | 第12-30页 |
| 1.1 纳米压印技术的研究现状 | 第13-22页 |
| 1.1.1 纳米压印技术及其分类 | 第13-16页 |
| 1.1.2 纳米压印技术的发展 | 第16-22页 |
| 1.2 纳米压印中的关键技术 | 第22-27页 |
| 1.2.1 纳米压印模板 | 第22-24页 |
| 1.2.2 纳米压印胶 | 第24-27页 |
| 1.3 本论文拟解决的关键问题 | 第27-28页 |
| 1.4 本论文的主要研究内容和章节安排 | 第28-30页 |
| 2 新型紫外光固化巯基-烯压印胶制备及性能研究 | 第30-49页 |
| 2.1 巯基-烯聚合反应机理 | 第30-33页 |
| 2.2 单体材料选择 | 第33-35页 |
| 2.3 材料组合配比 | 第35-38页 |
| 2.4 材料性能研究 | 第38-48页 |
| 2.4.1 旋涂性能 | 第38-43页 |
| 2.4.2 压印性能 | 第43-45页 |
| 2.4.3 抗刻蚀性能 | 第45-46页 |
| 2.4.4 表面可修饰性能 | 第46-47页 |
| 2.4.5 光学性能 | 第47-48页 |
| 2.5 本章小结 | 第48-49页 |
| 3 基于巯基-烯材料的新型柔性复合模板研究 | 第49-67页 |
| 3.1 模板的材质 | 第49-53页 |
| 3.2 刚性复合模板 | 第53-56页 |
| 3.3 新型柔性复合模板 | 第56-63页 |
| 3.4 柔性复合模板的压印验证实验和曲面压印 | 第63-66页 |
| 3.5 本章小结 | 第66-67页 |
| 4 新型纳米压印工艺研究 | 第67-89页 |
| 4.1 基于巯基-烯材料的双层紫外光固化纳米压印技术研究 | 第67-69页 |
| 4.2 利用牺牲模板的纳米压印技术制备高深宽比结构方法研究 | 第69-75页 |
| 4.3 纳米压印技术与粘结技术相结合制备三维纳米结构方法研究 | 第75-82页 |
| 4.4 基于模板压印诱导可控龟裂制备纳米通道方法研究 | 第82-88页 |
| 4.5 本章小结 | 第88-89页 |
| 5 纳米压印技术的应用研究 | 第89-100页 |
| 5.1 微纳光学元件的制备 | 第89-94页 |
| 5.1.1 微米量级光学元件制备 | 第90-91页 |
| 5.1.2 纳米量级光学元件制备 | 第91-94页 |
| 5.2 表面增强拉曼传感芯片 | 第94-98页 |
| 5.3 本章小结 | 第98-100页 |
| 6 总结和展望 | 第100-104页 |
| 6.1 本论文的内容和总结 | 第100-101页 |
| 6.2 本论文的主要的创新点 | 第101-102页 |
| 6.3 后续的工作展望 | 第102-104页 |
| 参考文献 | 第104-116页 |
| 作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第116-118页 |
