| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-45页 |
| 1.1 引言 | 第11-13页 |
| 1.2 光电化学水分解的基础知识 | 第13-21页 |
| 1.2.1 光电化学水分解的半导体理论基础 | 第13-16页 |
| 1.2.2 半导体电极/电解液界面 | 第16-19页 |
| 1.2.3 光电化学水分解的基本过程和要求 | 第19-21页 |
| 1.2.4 目前光电极材料所面临的挑战 | 第21页 |
| 1.3 晶面对光电化学水分解的影响 | 第21-34页 |
| 1.3.1 晶面对反应物吸附特性的影响 | 第22-24页 |
| 1.3.2 晶面对光生电子空穴对分离的影响 | 第24-27页 |
| 1.3.3 晶面对半导体/电解液界面结的影响 | 第27-28页 |
| 1.3.4 晶面依赖的光电化水分解的研究现状 | 第28-34页 |
| 1.4 本论文的出发点和创新点 | 第34-35页 |
| 参考文献 | 第35-45页 |
| 第二章 实验部分 | 第45-50页 |
| 2.1 主要的实验用品 | 第45页 |
| 2.2 In_2O_3微/纳米结构的制备 | 第45-47页 |
| 2.2.1 多面体状In_2O_3微米颗粒的制备 | 第45-46页 |
| 2.2.2 In_2O_3纳米线的制备 | 第46-47页 |
| 2.2.3 方形In_2O_3纳米线的氢处理 | 第47页 |
| 2.3 样品的表征手段 | 第47页 |
| 2.4 In_2O_3光电阳极的制备 | 第47-48页 |
| 2.5 光电催化性能测试 | 第48页 |
| 2.6 氧气析出量的测试及法拉第效率计算 | 第48-50页 |
| 第三章 In_2O_3微米晶体的可控生长及其光电催化性能研究 | 第50-73页 |
| 3.1 引言 | 第50-52页 |
| 3.2 多面体状In_2O_3微米晶体的表征 | 第52-57页 |
| 3.3 多面体状In_2O_3微米晶体的生长机理 | 第57-62页 |
| 3.4 多面体状In_2O_3微米晶体的光电催化性能测试 | 第62-69页 |
| 3.5 本章小结 | 第69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 第四章 In_2O_3纳米线晶面的可控生长及其光电化催化性能研究 | 第73-84页 |
| 4.1 引言 | 第73-74页 |
| 4.2 In_2O_3纳米线的表征 | 第74-77页 |
| 4.3 In_2O_3纳米线的生长机理 | 第77-79页 |
| 4.4 In_2O_3 纳米线的光电催化性能测试 | 第79-81页 |
| 4.5 本章小结 | 第81页 |
| 参考文献 | 第81-84页 |
| 第五章 氢处理方形In_2O_3纳米线增强的光电催化性能研究 | 第84-98页 |
| 5.1 引言 | 第84-85页 |
| 5.2 氢处理方形In_2O_3纳米线的表征 | 第85-86页 |
| 5.3 氢处理方形In_2O_3纳米线的光电催化性能测试 | 第86-89页 |
| 5.4 分析与讨论 | 第89-95页 |
| 5.5 本章小结 | 第95页 |
| 参考文献 | 第95-98页 |
| 第六章 结论与展望 | 第98-100页 |
| 6.1 结论 | 第98-99页 |
| 6.2 展望 | 第99-100页 |
| 致谢 | 第100-102页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文目录 | 第102-103页 |
