| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-22页 |
| 1.1 钛合金的高温氧化 | 第12-14页 |
| 1.2 钛合金抗氧化性能的改善及主要研究进展 | 第14-16页 |
| 1.3 钛合金隔热及主要研究进展 | 第16-18页 |
| 1.4 多层膜的设计与制备的研究进展 | 第18-20页 |
| 1.4.1 多层红外反射膜的设计 | 第18页 |
| 1.4.2 单层膜材料选择 | 第18-19页 |
| 1.4.3 制备方法 | 第19-20页 |
| 1.5 研究意义和内容 | 第20-22页 |
| 1.5.1 研究意义 | 第20页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第20-22页 |
| 第二章 实验与研究方法 | 第22-31页 |
| 2.1 实验研究路线 | 第22页 |
| 2.2 实验用原材料 | 第22-24页 |
| 2.2.1 基体材料 | 第22-23页 |
| 2.2.2 实验中所用耗材及试剂 | 第23-24页 |
| 2.3 仪器设备 | 第24页 |
| 2.4 基底材料的处理 | 第24-25页 |
| 2.5 薄膜制备工艺 | 第25-27页 |
| 2.5.1 磁控溅射基本原理 | 第25页 |
| 2.5.2 磁控溅射设备 | 第25-26页 |
| 2.5.3 薄膜制备 | 第26-27页 |
| 2.6 分析与测试方法 | 第27-31页 |
| 2.6.1 台阶仪 | 第27页 |
| 2.6.2 涂层附着力自动划痕仪 | 第27-28页 |
| 2.6.3 紫外—可见—近红外分光光度计测试 | 第28-29页 |
| 2.6.4 薄膜测厚仪 | 第29页 |
| 2.6.5 X射线衍射分析 | 第29页 |
| 2.6.6 场发射扫描电子显微镜及能谱分析 | 第29-30页 |
| 2.6.7 电子探针X射线显微分析仪 | 第30页 |
| 2.6.8 直读光谱仪 | 第30页 |
| 2.6.9 隔热测试分析 | 第30页 |
| 2.6.10 抗氧化性能测试分析 | 第30-31页 |
| 第三章 各单层膜的制备及性能研究 | 第31-54页 |
| 3.1 氧化物薄膜的制备工艺及性能研究 | 第31-47页 |
| 3.1.1 气体流量比对氧化物薄膜性能的影响 | 第33-39页 |
| 3.1.2 溅射功率对氧化物薄膜性能的影响 | 第39-42页 |
| 3.1.3 靶基距对氧化物薄膜性能的影响 | 第42-44页 |
| 3.1.4 沉积温度对氧化物薄膜性能的影响 | 第44-47页 |
| 3.2 类金属层薄膜的制备工艺及性能研究 | 第47-52页 |
| 3.2.1 TiAlN膜的制备及性能研究 | 第47-50页 |
| 3.2.2 TiAlCr膜的制备及性能研究 | 第50-52页 |
| 3.3 本章小结 | 第52-54页 |
| 第四章 抗氧化隔热多层红外反射膜的制备与基本性能研究 | 第54-65页 |
| 4.1 多层膜的设计与制备 | 第54-56页 |
| 4.2 多层膜的形貌结构分析 | 第56-61页 |
| 4.3 多层膜的红外光学性能研究 | 第61-64页 |
| 4.4 结论 | 第64-65页 |
| 第五章 多层膜的隔热性能和抗氧化性能研究 | 第65-85页 |
| 5.1 多层膜试样隔热性能分析 | 第65-72页 |
| 5.1.1 实验用隔热测试装置 | 第65-66页 |
| 5.1.2 实验用隔热测试装置可靠性验证分析 | 第66页 |
| 5.1.3 隔热性能测试分析 | 第66-69页 |
| 5.1.4 隔热性能的重复性测试 | 第69-72页 |
| 5.2 多层膜试样的抗氧化性能研究 | 第72-84页 |
| 5.2.1 含TiAlN膜的多层膜试样氧化行为研究 | 第72-78页 |
| 5.2.2 含TiAlCr膜的多层膜试样氧化行为研究 | 第78-84页 |
| 5.3 本章小结 | 第84-85页 |
| 第六章 结论 | 第85-87页 |
| 参考文献 | 第87-92页 |
| 攻读硕士期间发表的论文与成果 | 第92-93页 |
| 致谢 | 第93页 |
