| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 第一章 绪论 | 第8-25页 |
| 1.1 引言 | 第8页 |
| 1.2 金属有机化合物的基元反应 | 第8-11页 |
| 1.2.1 配体的解离与配位 | 第8-9页 |
| 1.2.2 迁移插入 | 第9-10页 |
| 1.2.3 氧化加成 | 第10-11页 |
| 1.2.4 还原消除 | 第11页 |
| 1.3 过渡金属络合物催化不饱和底物的硅氢加成反应机理 | 第11-19页 |
| 1.3.1 配位加成机理 | 第11-16页 |
| 1.3.1.1 Chalk-Harrod机理和Modified Chalk-Harrod机理 | 第11-12页 |
| 1.3.1.2 OM机理 | 第12-13页 |
| 1.3.1.3 CM机理 | 第13页 |
| 1.3.1.4 Gade机理 | 第13-14页 |
| 1.3.1.5 [2+2]加成机理 | 第14-16页 |
| 1.3.2 离子加成机理 | 第16-18页 |
| 1.3.2.1 Glaser-Tilley机理 | 第16页 |
| 1.3.2.2 离子外球面机理 | 第16-18页 |
| 1.3.3 自由基加成机理 | 第18-19页 |
| 1.4 本论文的主要研究内容 | 第19-20页 |
| 参考文献 | 第20-25页 |
| 第二章 理论研究的计算方法 | 第25-31页 |
| 2.1 引言 | 第25页 |
| 2.2 量子化学计算方法 | 第25-28页 |
| 2.2.1 从头算方法 | 第25-26页 |
| 2.2.2 半经验方法 | 第26页 |
| 2.2.3 密度泛函理论 | 第26-28页 |
| 参考文献 | 第28-31页 |
| 第三章 高价态双氧钼(Ⅵ)配合物催化二苯酮的硅氢加成反应机理研究 | 第31-59页 |
| 3.1 引言 | 第31页 |
| 3.2 过渡金属络合物催化硅氢加成反应机理研究背景 | 第31-35页 |
| 3.2.1 氢化机理 | 第31-33页 |
| 3.2.1.1 Chalk-Harrod机理和Modified Chalk-Harrod机理 | 第32页 |
| 3.2.1.2 [2+2]加成机理 | 第32-33页 |
| 3.2.2 Glaser-Tilley机理 | 第33-34页 |
| 3.2.3 离子外球面机理 | 第34-35页 |
| 3.3 课题研究中应用的计算方法 | 第35-36页 |
| 3.4 结果与讨论 | 第36-45页 |
| 3.4.1 离子外球面路径 | 第36-39页 |
| 3.4.1.1 硅烷(PhMe_2SiH)配位到MoO_2Cl_2配合物的Mo中心 | 第36-37页 |
| 3.4.1.2 二苯酮的还原 | 第37-38页 |
| 3.4.1.3 H原子转移 | 第38-39页 |
| 3.4.2 [2+2]加成路径 | 第39-42页 |
| 3.4.2.1 硅烷(PhMe_2SiH)的加成 | 第39-40页 |
| 3.4.2.2 二苯酮(PhC=OPh)的还原 | 第40页 |
| 3.4.2.3 反-[2+2]加成 | 第40-42页 |
| 3.4.3 MoO_2Cl_2/HSicat体系催化醛/酮还原反应的离子外球面路径与[2+2]加成路径的比较 | 第42-43页 |
| 3.4.4 离子外球面路径中速率决定步骤的研究 | 第43-44页 |
| 3.4.5 小结 | 第44-45页 |
| 3.5 本章小结 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-59页 |
| 第四章 高价态Mn(V)≡N配合物催化苯甲醛的硅氢加成反应机理研究 | 第59-82页 |
| 4.1 引言 | 第59-60页 |
| 4.2 高氧化态过渡金属配合物催化硅氢加成反应的机理研究背景 | 第60-63页 |
| 4.2.1 [2+2]加成机理 | 第60-61页 |
| 4.2.2 离子外球面机理 | 第61-62页 |
| 4.2.3 羰基预配位机理 | 第62-63页 |
| 4.3 课题研究应用的计算方法 | 第63页 |
| 4.4 结果与讨论 | 第63-74页 |
| 4.4.1 路径a.[2+2]加成机理 | 第63-64页 |
| 4.4.2 路径b.以氮配体为中心活化Si-H键的硅烷化反应 | 第64-66页 |
| 4.4.2.1 氮配体活化硅烷中的Si-H键 | 第64-65页 |
| 4.4.2.2 苯甲醛的还原 | 第65-66页 |
| 4.4.2.3 H原子的转移 | 第66页 |
| 4.4.3 路径c.以Mn(Ⅴ)为中心活化Si-H键的硅烷化反应 | 第66-68页 |
| 4.4.3.1 硅烷配位到Mn(Ⅴ)(?)N络合物Mn(Ⅴ)中心 | 第67页 |
| 4.4.3.2 苯甲醛的还原 | 第67-68页 |
| 4.4.3.3 H原子的转移 | 第68页 |
| 4.4.4 路径d.以Mn(Ⅱ)为活化中心催化的硅烷化反应 | 第68-71页 |
| 4.4.4.1 硅烷添加到金属Mn(Ⅱ)中心 | 第69-70页 |
| 4.4.4.2 苯甲醛的还原 | 第70页 |
| 4.4.4.3 H原子的转移 | 第70-71页 |
| 4.4.5 路径e.羰基预配位机理 | 第71-74页 |
| 4.4.5.1 苯甲醛的还原 | 第72页 |
| 4.4.5.2 硅烷加成,H-Si/Mn-O σ键复分解 | 第72-74页 |
| 4.5 本章小结 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-82页 |
| 第五章 结论 | 第82-83页 |
| 在读期间发表的学术论文及研究成果 | 第83-84页 |
| 致谢 | 第84页 |
