| 致谢 | 第5-7页 |
| 摘要 | 第7-9页 |
| ABSTRACT | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第14-24页 |
| 1.1 传统的颜色滤波器 | 第14-15页 |
| 1.2 基于表面等离子激元效应的颜色滤波器 | 第15-20页 |
| 1.2.1 EOT(Extraordinary optical transmission)光学超高透射现象 | 第15-18页 |
| 1.2.2 ELT(Extraordinary low transmission)光学超低透射现象 | 第18-20页 |
| 1.3 本文的研究目的及意义 | 第20页 |
| 1.4 本文的主要研究内容及成果 | 第20-24页 |
| 第二章 金属表面等离子激元的原理和调控方法 | 第24-44页 |
| 2.1 金属表面等离子激元基本原理 | 第24-29页 |
| 2.1.1 金属表面等离子激元的色散关系 | 第24-28页 |
| 2.1.2 金属表面等离子激元的穿透深度 | 第28页 |
| 2.1.3 金属表面等离子激元的传播长度 | 第28-29页 |
| 2.2 金属表面等离子激元的入射光耦合激发方式 | 第29-32页 |
| 2.2.1 衰减全反射(Attenuated Total Reflection,ATR)耦合 | 第29-31页 |
| 2.2.2 光栅耦合 | 第31-32页 |
| 2.3 微纳结构的制备技术 | 第32-44页 |
| 2.3.1 膜层制备技术 | 第32-36页 |
| 2.3.2 微纳结构制备技术 | 第36-44页 |
| 第三章 超薄银膜二维圆孔阵列颜色滤波器偏振无关性的研究 | 第44-62页 |
| 3.2 二维小孔阵列建模计算和实验制备方法 | 第44-57页 |
| 3.2.1 阵列周期和膜层厚度对颜色滤波器性能影响 | 第48-49页 |
| 3.2.2 小孔孔径比对颜色滤波器性能影响 | 第49-50页 |
| 3.2.3 二维圆孔阵列颜色滤波器呈色色域研究 | 第50-53页 |
| 3.2.4 二维阵列颜色滤波器的实验制备与检测验证 | 第53-57页 |
| 3.3 二维圆孔阵列滤波物理机制讨论 | 第57-60页 |
| 3.4 本章小结 | 第60-62页 |
| 第四章 超薄银膜二维圆孔阵列颜色滤波器成色纯度的研究 | 第62-82页 |
| 4.1 引言 | 第62页 |
| 4.2 二维错位圆孔建模及计算 | 第62-69页 |
| 4.2.1 二维错位圆孔仿真模型的建立 | 第62-64页 |
| 4.2.2 二维错位圆孔透射率与各结构参数的关系 | 第64-65页 |
| 4.2.3 二维错位圆孔滤波成色纯度与各结构参数的关系 | 第65-69页 |
| 4.3 二位错位圆孔减色滤波器的实验制备和结果分析 | 第69-81页 |
| 4.3.1 二维错位圆孔颜色滤波器的实验制备 | 第69-75页 |
| 4.3.2 二维错位圆孔模型成色坐标与各结构变量之间的经验公式 | 第75-78页 |
| 4.3.3 引起二维错位圆孔现象物理机理的分析 | 第78-81页 |
| 4.4 本章小结 | 第81-82页 |
| 第五章 超薄银膜二维颜色滤波器大面积制备方法的研究 | 第82-94页 |
| 5.1 引言 | 第82-83页 |
| 5.2 多光栅干涉光刻XIL技术介绍 | 第83-85页 |
| 5.2.1 XIL光路及原理 | 第83-84页 |
| 5.2.2 XIL掩膜光栅的制备 | 第84-85页 |
| 5.3 XIL技术的完善 | 第85-89页 |
| 5.3.1 提升XIL掩膜光栅利用率 | 第85-87页 |
| 5.3.2 XIL大面积拼接光路的设计 | 第87-89页 |
| 5.4 实验制备和结果分析 | 第89-92页 |
| 5.5 本章小结 | 第92-94页 |
| 第六章 总结与展望 | 第94-97页 |
| 6.1 总结 | 第94-95页 |
| 6.2 展望 | 第95-97页 |
| 参考文献 | 第97-106页 |
| 个人简历 | 第106-107页 |
| 博士期间发表论文情况及其他研究成果 | 第107-108页 |
