| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-17页 |
| 1.1 薄膜场致发射阴极 | 第11-13页 |
| 1.1.1 Spindt型阴极 | 第11页 |
| 1.1.2 表面传导发射阴极 | 第11-12页 |
| 1.1.3 MISM型阴极 | 第12-13页 |
| 1.1.4 MIM型阴极 | 第13页 |
| 1.2 场致发射基本理论 | 第13-15页 |
| 1.2.1 场致发射 | 第13-14页 |
| 1.2.2 金属的场致发射 | 第14-15页 |
| 1.3 MIM型阴极的工作原理 | 第15-16页 |
| 1.3.1 MIM阴极能级图 | 第15页 |
| 1.3.2 MIM阴极的电流构成 | 第15-16页 |
| 1.4 本课题的研究目的和内容 | 第16-17页 |
| 1.4.1 本课题研究目的 | 第16页 |
| 1.4.2 本课题研究内容及创新点 | 第16-17页 |
| 第二章 MIM阴极的制备、表征及测试系统 | 第17-27页 |
| 2.1 MIM阴极制备系统 | 第17-21页 |
| 2.1.1 磁控溅射镀膜 | 第17-18页 |
| 2.1.2 Al阳极氧化 | 第18-20页 |
| 2.1.3 光刻 | 第20-21页 |
| 2.2 薄膜表征系统 | 第21-25页 |
| 2.2.1 扫描电子显微镜 | 第21页 |
| 2.2.2 原子力显微镜 | 第21-23页 |
| 2.2.3 透光率测试 | 第23-24页 |
| 2.2.4 光学显微镜 | 第24-25页 |
| 2.3 MIM阴极测试系统 | 第25-26页 |
| 2.4 本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 MIM冷阴极的工艺探究及性能分析 | 第27-43页 |
| 3.1 单阵列MIM阴极的制备 | 第27-29页 |
| 3.1.1 玻璃基底清洗 | 第27页 |
| 3.1.2 制备材料的选取 | 第27-28页 |
| 3.1.2.1 底电极材料选取 | 第27-28页 |
| 3.1.2.2 绝缘层材料的选取 | 第28页 |
| 3.1.2.3 顶电极材料的选取 | 第28页 |
| 3.1.3 单阵列MIM阴极的制备流程 | 第28-29页 |
| 3.2 反应溅射Al_2O_3厚度对MIM阴极发射性能的影响 | 第29-32页 |
| 3.2.1 溅射气压对Al_2O_3沉积速率的影响 | 第29-30页 |
| 3.2.2 MIM阴极发射性能测试 | 第30-32页 |
| 3.3 顶电极厚度对MIM阴极发射性能的影响 | 第32-35页 |
| 3.3.1 Au薄膜的表征 | 第32-33页 |
| 3.3.2 MIM阴极发射性能测试及分析 | 第33-35页 |
| 3.4 阳极氧化制备Al_2O_3绝缘层对MIM阴极发射性能的影响 | 第35-40页 |
| 3.4.1 阳极氧化样品的制备 | 第35-36页 |
| 3.4.2 MIM阴极测试及分析 | 第36-40页 |
| 3.5 MIM阴极负阻效应分析 | 第40-41页 |
| 3.6 阳极电压和真空度对阳极电流的影响 | 第41-42页 |
| 3.6.1 阳极电压对阳极电流的影响 | 第41页 |
| 3.6.2 真空度对阳极电流的影响 | 第41-42页 |
| 3.7 本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 石墨烯用作顶电极的发射性能研究 | 第43-51页 |
| 4.1 石墨烯的结构和性质 | 第43-44页 |
| 4.2 单层石墨烯的化学气相沉积生长 | 第44-45页 |
| 4.3 石墨烯薄膜的转移及表征 | 第45-48页 |
| 4.3.1 石墨烯薄膜转移步骤 | 第45-47页 |
| 4.3.2 石墨烯薄膜的表征 | 第47-48页 |
| 4.4 石墨烯用作MIM顶电极的性能测试及分析 | 第48-50页 |
| 4.5 本章小结 | 第50-51页 |
| 第五章 MIM阴极荧光屏测试及其应用研究 | 第51-65页 |
| 5.1 FED简介 | 第51页 |
| 5.2 荧光屏的制备 | 第51-55页 |
| 5.2.1 电子荧光粉 | 第51-52页 |
| 5.2.2 电泳沉积法制备单色荧光屏 | 第52-54页 |
| 5.2.3 丝网印刷法制备彩色荧光屏 | 第54-55页 |
| 5.3 单阵列MIM阴极的荧光屏测试 | 第55-57页 |
| 5.3.1 样品及荧光屏的安装 | 第55-56页 |
| 5.3.2 荧光屏测试效果 | 第56-57页 |
| 5.4 2×2阵列MIM阴极的制备及测试 | 第57-59页 |
| 5.4.1 2×2阵列MIM阴极的制备 | 第57-58页 |
| 5.4.2 2×2阵列MIM阴极测试 | 第58-59页 |
| 5.5 3×3阵列MIM阴极的制备及测试 | 第59-60页 |
| 5.6 大面积多阵列MIM阴极的制备及测试 | 第60-63页 |
| 5.6.1 大面积多阵列MIM阴极的制备 | 第60-61页 |
| 5.6.2 阴极的测试及应用 | 第61-63页 |
| 5.7 本章小结 | 第63-65页 |
| 第六章 总结与展望 | 第65-67页 |
| 6.1 工作总结 | 第65页 |
| 6.2 前景展望 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-71页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第71-72页 |
