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平面亚微米导电率精确测量及其在MEMS器件无损检测中的应用研究

致谢第1-5页
摘要第5-6页
Abstract第6-7页
目次第7-9页
1 绪论第9-19页
   ·课题背景第9-10页
   ·国内外导电率测量研究的现状第10-13页
     ·普通导电率测量方法第10-11页
     ·四电极测量法第11-13页
   ·原子力显微镜的发展第13-16页
   ·本文研究目标及意义第16-17页
   ·本文主要研究内容第17-18页
   ·本章小结第18-19页
2 亚微米导电率的计算模型第19-40页
   ·引言第19页
   ·四电极导电率测量原理第19-24页
   ·平面亚微米导电率模型建立和修正第24-39页
     ·镜像法第24-29页
     ·格林函数法第29-36页
     ·经验公式法第36-37页
     ·有限元分析法第37-39页
   ·本章小结第39-40页
3 平面亚微米导电率测量系统研制第40-57页
   ·系统的总体设计第40-41页
   ·系统原理第41页
   ·系统硬件平台第41-53页
     ·新型四电极AFM探针的研制第41-47页
     ·亚微米导电率测量系统控制电路设计第47-50页
     ·原子力显微镜平台改造第50-53页
   ·系统软件平台第53-56页
     ·LabVIEW平台简介第53-54页
     ·基于LabVIEW的测量系统软件实验第54-56页
   ·本章小结第56-57页
4 平面亚微米导电率测量实验及分析第57-75页
   ·引言第57页
   ·普通四电极模式的平面导电率测量第57-61页
     ·传统四电极法扫描平台搭建第57-59页
     ·扫描实验及分析第59-60页
     ·传统四电极扫描的不足第60-61页
   ·新型平面亚微米导电率测量系统的形貌扫描能力实验第61-63页
     ·二维形貌扫描第61-62页
     ·三维形貌扫描第62-63页
   ·新型平面亚微米导电率测量系统的导电率扫描实验及分析(铝薄膜导线)第63-71页
     ·铝薄膜导线制作第63-64页
     ·铝导线测量实验第64-67页
     ·实验数据分析第67-71页
   ·新型平面亚微米导电率测量系统的导电率扫描实验及分析(ITO薄膜)第71-74页
     ·ITO薄膜第71-72页
     ·ITO薄膜测量实验第72-73页
     ·实验数据分析第73-74页
   ·本章小结第74-75页
5 平面亚微米导电率测量方法在MEMS器件无损检测中的应用第75-79页
   ·MEMS的可靠性第75页
   ·MEMS机械可靠性评价第75-77页
   ·新方法在可靠性无损检测的优势第77-78页
   ·本章小结第78-79页
6 结论和展望第79-81页
   ·结论第79-80页
     ·研究成果第79页
     ·改进点第79-80页
   ·展望第80-81页
参考文献第81-84页
硕士期间发表的论文及研究成果第84页

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