氧化锌钛透明半导体薄膜的制备工艺和光电性能研究
| 摘要 | 第1-9页 |
| Abstract | 第9-11页 |
| 第1章 文献综述 | 第11-16页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·透明导电氧化物（TCO）薄膜的基本性质 | 第11页 |
| ·透明导电薄膜（TCF）的研究概况 | 第11页 |
| ·透明导电薄膜的应用 | 第11-12页 |
| ·ZnO薄膜的性质及掺杂体系 | 第12-14页 |
| ·课题选取、研究内容及意义 | 第14-16页 |
| 第2章 TZO薄膜的制备和表征方法 | 第16-20页 |
| ·TZO薄膜的制备方法 | 第16-17页 |
| ·射频磁控溅射制备TZO薄膜 | 第17-18页 |
| ·透明导电薄膜的表征技术 | 第18-19页 |
| ·小结 | 第19-20页 |
| 第3章 TZO薄膜微观结构和光电综合性能的研究 | 第20-38页 |
| ·Ti掺杂对ZnO薄膜性能的影响 | 第20页 |
| ·衬底温度对微观结构和光电综合性能的影响 | 第20-28页 |
| ·样品制备 | 第20页 |
| ·样品表征 | 第20页 |
| ·衬底温度对薄膜微观结构的影响 | 第20-25页 |
| ·衬底温度对薄膜透过率的影响 | 第25-26页 |
| ·衬底温度对薄膜电阻率的影响 | 第26-27页 |
| ·衬底温度对薄膜光电综合性能的影响 | 第27-28页 |
| ·溅射气压对微观结构和光电综合性能的影响 | 第28-33页 |
| ·样品制备 | 第28页 |
| ·溅射气压对薄膜微观结构的影响 | 第28-30页 |
| ·溅射气压对薄膜透过率的影响 | 第30-32页 |
| ·溅射气压对薄膜电学性质的影响 | 第32-33页 |
| ·溅射气压对薄膜光电综合性能的影响 | 第33页 |
| ·靶基距离对微观结构和光电综合性能的影响 | 第33-37页 |
| ·样品制备 | 第33-34页 |
| ·靶基距离对对薄膜微观结构的影响 | 第34-35页 |
| ·靶基距离对薄膜透过率的影响 | 第35-36页 |
| ·靶基距离对薄膜电阻率的影响 | 第36页 |
| ·靶基距离对薄膜光电综合性能的影响 | 第36-37页 |
| ·小结 | 第37-38页 |
| 第4章 TZO薄膜的光学性质研究 | 第38-57页 |
| ·前言 | 第38页 |
| ·光谱拟合法 | 第38-42页 |
| ·包络法计算薄膜的光学常数 | 第38-40页 |
| ·遗传算法实现薄膜光学常数的反演 | 第40-42页 |
| ·衬底温度对光学性质的影响 | 第42-47页 |
| ·衬底温度对光学常数的影响 | 第42-45页 |
| ·衬底温度对光学带隙的影响 | 第45-47页 |
| ·溅射气压对光学性质的影响 | 第47-52页 |
| ·溅射气压对光学常数的影响 | 第47-51页 |
| ·溅射气对光学带隙的影响 | 第51-52页 |
| ·靶基距离对光学性质的影响 | 第52-56页 |
| ·靶基距离对光学常数的影响 | 第52-55页 |
| ·靶基距离对光学带隙的影响 | 第55-56页 |
| ·小结 | 第56-57页 |
| 第5章 总结与展望 | 第57-59页 |
| ·总结 | 第57页 |
| ·展望 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 附录A（攻读学位期间所发表的学术论文目录） | 第63页 |
