二维阵列狭缝阿达玛光谱仪关键技术研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-19页 |
| ·光谱仪器发展简介 | 第11-13页 |
| ·传统光谱仪器 | 第11-12页 |
| ·微小型光谱仪器 | 第12页 |
| ·基于MEMS技术的微小型光谱仪 | 第12-13页 |
| ·阿达玛光谱仪研究背景 | 第13-14页 |
| ·阿达玛光谱仪的发展现状 | 第14-18页 |
| ·移动式机械模板 | 第15-16页 |
| ·液晶空间光调制器 | 第16-17页 |
| ·数字微镜阵列器件(DMD) | 第17-18页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第18-19页 |
| 第2章 阵列狭缝模板编码原理 | 第19-30页 |
| ·称重原理 | 第19-20页 |
| ·二维阵列狭缝模板实现阿达玛变换的原理 | 第20-23页 |
| ·阿达玛光谱仪的应用范围 | 第23-24页 |
| ·二维阵列狭缝阿达玛光谱探测系统与实验 | 第24-29页 |
| ·本章小结 | 第29-30页 |
| 第3章 二维阵列狭缝模板设计方法 | 第30-42页 |
| ·引言 | 第30页 |
| ·编码矩阵设计方法 | 第30-32页 |
| ·阿达玛S矩阵构造方法 | 第30-31页 |
| ·阿达玛循环S矩阵 | 第31-32页 |
| ·狭缝宽度设计方法 | 第32-35页 |
| ·入射狭缝几何宽度所对应的光谱宽度 | 第32-34页 |
| ·探测器最小可分辨波长差 | 第34-35页 |
| ·狭缝列间距设计方法 | 第35-37页 |
| ·狭缝高度设计方法 | 第37-38页 |
| ·基于MEMS的二维阵列狭缝编码模板加工工艺 | 第38-41页 |
| ·MEMS(微机电系统)工艺 | 第38页 |
| ·二维阵列狭缝模板制作工艺 | 第38-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第4章 模板加工误差对仪器性能的影响 | 第42-53页 |
| ·引言 | 第42页 |
| ·编码模板加工误差对仪器波长准确度的影响 | 第42-48页 |
| ·狭缝宽度误差的影响 | 第43-44页 |
| ·狭缝在光谱维方向位置误差对仪器性能的影响 | 第44-47页 |
| ·狭缝高度、垂直光谱维方向加工误差的影响 | 第47-48页 |
| ·实验与仿真分析 | 第48-51页 |
| ·本章小结 | 第51-53页 |
| 第5章 Smear效应的影响及去除方法 | 第53-66页 |
| ·引言 | 第53页 |
| ·Smear效应的产生机理 | 第53-55页 |
| ·Smear效应对阿达玛光谱仪的影响 | 第55-57页 |
| ·Smear效应去除方法 | 第57-65页 |
| ·光学暗区(OBR)法 | 第57-61页 |
| ·小波变换法 | 第61-65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 第6章 结论和展望 | 第66-68页 |
| ·本文结论 | 第66-67页 |
| ·研究展望 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-71页 |
| 在学期间学术成果情况 | 第71-72页 |
| 指导教师及作者简介 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73页 |
