| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-22页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·氮化物涂层沉积技术 | 第11-14页 |
| ·化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition) | 第11页 |
| ·物理气相沉积(Physical Vapor Deposition) | 第11-14页 |
| ·TiAlN 涂层研究发展现状 | 第14-17页 |
| ·纳米复合涂层研究发展现状 | 第17-20页 |
| ·课题研究目的、意义及主要内容 | 第20-22页 |
| ·研究目的及意义 | 第20页 |
| ·本课题研究内容 | 第20-22页 |
| 第2章 试验方法 | 第22-28页 |
| ·镀膜设备和试样 | 第22-23页 |
| ·电弧离子镀 TiAlN 涂层工艺参数 | 第23页 |
| ·磁控溅射 TiAlN/Cu 工艺参数 | 第23-24页 |
| ·磁控溅射 TiAlN/Si_3N_4-Cu 工艺参数 | 第24页 |
| ·涂层性能测试 | 第24-28页 |
| ·微观结构及成分 | 第24-25页 |
| ·物相分析 | 第25页 |
| ·涂层硬度测试 | 第25页 |
| ·涂层结合力测试 | 第25-26页 |
| ·涂层摩擦学性能 | 第26页 |
| ·涂层弹性模量测定 | 第26-27页 |
| ·涂层残余应力测试 | 第27页 |
| ·涂层抗高温氧化性能 | 第27-28页 |
| 第3章 挡板尺寸对电弧离子镀 TiAlN 涂层性能的影响 | 第28-37页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·涂层测试结果与分析 | 第28-35页 |
| ·TiAlN 涂层成分 | 第28-29页 |
| ·涂层表面形貌 | 第29-30页 |
| ·涂层 XRD 分析 | 第30页 |
| ·涂层沉积速率 | 第30-31页 |
| ·力学性能 | 第31-33页 |
| ·摩擦学性能 | 第33-35页 |
| ·本章小结 | 第35-37页 |
| 第4章 偏压对挡板电弧离子镀 TiAlN 涂层性能的影响 | 第37-45页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·实验结果及分析 | 第37-44页 |
| ·涂层成分 | 第37-38页 |
| ·涂层表面形貌 | 第38-39页 |
| ·涂层 XRD 分析 | 第39页 |
| ·涂层沉积速率 | 第39-40页 |
| ·力学和摩擦学性能 | 第40-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第5章 磁控溅射 TiAlN/Cu 涂层的合成与性能研究 | 第45-56页 |
| ·引言 | 第45页 |
| ·涂层测试结果与分析 | 第45-55页 |
| ·涂层组织结构 | 第45-47页 |
| ·涂层力学性能 | 第47-51页 |
| ·涂层摩擦性能 | 第51-53页 |
| ·涂层高温氧化 | 第53-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第6章 TiAlN/Si_3N_4-Cu 涂层的制备及性能研究 | 第56-65页 |
| ·引言 | 第56页 |
| ·涂层测试结果与分析 | 第56-63页 |
| ·涂层成分和微观结构 | 第56-59页 |
| ·涂层力学性能 | 第59-62页 |
| ·摩擦学性能 | 第62-63页 |
| ·本章小结 | 第63-65页 |
| 第7章 结论 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-73页 |
| 攻读硕士期间发表论文 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
