| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-17页 |
| ·课题研究背景及研究意义 | 第12-13页 |
| ·微带天线的国内外研究概况 | 第13-15页 |
| ·本文的主要内容 | 第15-17页 |
| 第二章 微带天线的理论基础 | 第17-30页 |
| ·微带天线的基本辐射机理 | 第17-19页 |
| ·微尺度条件下的电磁场方程 | 第19-21页 |
| ·微尺度条件下的尺度效应 | 第19-20页 |
| ·电势能与尺度效应 | 第19-20页 |
| ·磁场与尺度效应 | 第20页 |
| ·电场与尺度效应 | 第20页 |
| ·微尺度条件下的电磁场方程 | 第20-21页 |
| ·微带天线的分析方法 | 第21-26页 |
| ·传输线模型法 | 第22-24页 |
| ·空腔模型法 | 第24-25页 |
| ·全波分析法 | 第25-26页 |
| ·有限元法 | 第26页 |
| ·微带天线基本的特性参数 | 第26-29页 |
| ·微带天线的电路特性参数 | 第27-28页 |
| ·输入阻抗 | 第27页 |
| ·S 参数 | 第27页 |
| ·电压驻波比 | 第27-28页 |
| ·带宽 | 第28页 |
| ·微带天线的辐射特性参数 | 第28-29页 |
| ·方向图 | 第28页 |
| ·增益 | 第28-29页 |
| ·极化 | 第29页 |
| ·本章小结 | 第29-30页 |
| 第三章 基于高阻硅基底的 C 波段阵列式微带天线的研究与设计 | 第30-60页 |
| ·基于高阻硅基底的 C 波段微带天线的阵列单元设计 | 第30-36页 |
| ·介质基板的选择与结构设计 | 第31-33页 |
| ·贴片单元的尺寸设计 | 第33-34页 |
| ·馈电设计与阻抗匹配 | 第34-36页 |
| ·微带天线的馈电方式 | 第34-35页 |
| ·微带天线的阻抗匹配 | 第35-36页 |
| ·基于高阻硅基底的 C 波段微带天线阵列单元的仿真分析 | 第36-40页 |
| ·基于高阻硅基底 C 波段微带天线阵列的设计 | 第40-48页 |
| ·微带天线阵列的阵元数量 | 第40-41页 |
| ·微带天线阵列的馈电网络 | 第41-42页 |
| ·高硅基底 C 波段 1×2 微带天线阵列的仿真计算 | 第42-48页 |
| ·基于硅基底的 C 波段阵列式微带天线的优化研究 | 第48-59页 |
| ·基于低阻硅的 C 波段微带天线 | 第48-52页 |
| ·C 波段阵列式微带天线的小型化研究 | 第52-58页 |
| ·基于 U 形槽的 C 波段微带天线 | 第53-55页 |
| ·基于 H 形槽的 C 波段微带天线 | 第55-58页 |
| ·影响硅基底 MEMS 微带天线辐射效率因素的分析 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第四章 硅基底 C 波段阵列式微带天线的加工与测试 | 第60-75页 |
| ·MEMS 加工工艺介绍 | 第60-61页 |
| ·基于高阻硅的 MEMS 加工工艺研究 | 第61-65页 |
| ·刻蚀工艺 | 第62-63页 |
| ·溅射与电镀工艺 | 第63页 |
| ·切割工艺 | 第63-64页 |
| ·封装工艺 | 第64-65页 |
| ·基于高阻硅的 C 波段阵列式微带天线加工样品测试 | 第65-74页 |
| ·微带天线加工样品测试结果 | 第65-70页 |
| ·VSWR 的测试 | 第65-67页 |
| ·方向图的测试 | 第67-68页 |
| ·增益的测试 | 第68-70页 |
| ·微带天线测试结果分析 | 第70-74页 |
| ·本章小结 | 第74-75页 |
| 第五章 C 波段阵列式微带天线在智能弹药引导系统中应用 | 第75-79页 |
| ·智能弹药引导系统总体技术方案 | 第75-77页 |
| ·智能弹药控制原理 | 第75-76页 |
| ·智能弹药引导系统设计 | 第76-77页 |
| ·智能弹药机械改造及弹上控制系统安装方式 | 第77-78页 |
| ·智能弹药机械改造方式 | 第77-78页 |
| ·弹上控制系统安装方式 | 第78页 |
| ·本章小结 | 第78-79页 |
| 第六章 总结与展望 | 第79-81页 |
| ·总结 | 第79-80页 |
| ·展望 | 第80-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 参考文献 | 第82-86页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第86-87页 |
