| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 1 绪论 | 第9-18页 |
| ·引言 | 第9-11页 |
| ·二氧化钒薄膜的光学和电学性质 | 第11-13页 |
| ·二氧化钒薄膜的应用 | 第13-15页 |
| ·国内外研究现状及进展 | 第15-17页 |
| ·本课题主要研究内容 | 第17-18页 |
| 2. 二氧化钒薄膜的制备及表征 | 第18-28页 |
| ·二氧化钒薄膜制备方法 | 第18-19页 |
| ·溅射法 | 第18页 |
| ·溶胶-凝胶(Sol-Gel)法 | 第18-19页 |
| ·蒸发法 | 第19页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD)制备二氧化钒薄膜 | 第19-22页 |
| ·脉冲激光沉积制备二氧化钒薄膜 | 第19页 |
| ·脉冲激光沉积原理 | 第19-21页 |
| ·脉冲激光沉积制备二氧化钒薄膜工艺过程 | 第21-22页 |
| ·二氧化钒薄膜的表征 | 第22-28页 |
| ·二氧化钒薄膜电学性质测试 | 第22-24页 |
| ·X射线衍射分析 | 第24-25页 |
| ·拉曼光谱对相变研究 | 第25页 |
| ·AFM(原子力显微镜)分析薄膜表面形貌 | 第25-26页 |
| ·紫外可见分光光度计测试透射光谱 | 第26-27页 |
| ·红外光度计测量VO_2薄膜红外透射光谱 | 第27页 |
| ·傅里叶红外光谱仪测量中远红外光谱 | 第27-28页 |
| 3. 单层二氧化钒薄膜性质分析 | 第28-46页 |
| ·工艺参数对脉冲激光沉积制备二氧化钒薄膜影响 | 第28-35页 |
| ·温度对脉冲激光沉积法制备二氧化钒薄膜影响 | 第28-30页 |
| ·氧压对脉冲激光沉积法制备二氧化钒薄膜影响 | 第30-32页 |
| ·激光能量对脉冲激光沉积法制备二氧化钒薄膜影响 | 第32-34页 |
| ·退火对脉冲激光沉积法制备二氧化钒薄膜影响 | 第34-35页 |
| ·不同衬底对生长得到的二氧化钒薄膜影响 | 第35-41页 |
| ·生长在二氧化硅衬底上的二氧化钒薄膜 | 第35-37页 |
| ·生长在m-Al_2O_3、a-Al_2O_3、c-Al_2O_3衬底上的二氧化钒薄膜 | 第37-39页 |
| ·生长在r-Al_2O_3衬底上的二氧化钒薄膜 | 第39-41页 |
| ·不同衬底及不同厚度的二氧化钒薄膜的光学性质 | 第41-45页 |
| ·Al_2O_3衬底上生长的二氧化钒薄膜可见光区光学性质 | 第41-42页 |
| ·二氧化硅衬底上生长的二氧化钒薄膜可见光区光学性质 | 第42-43页 |
| ·Al_2O_3衬底上生长的二氧化钒薄膜红外光学性质 | 第43-44页 |
| ·二氧化硅衬底上生长的二氧化钒薄膜红外光学性质 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 4. 二氧化钒复合薄膜的设计、制备及性能 | 第46-55页 |
| ·多层复合薄膜光学设计 | 第46-48页 |
| ·TFCalc软件介绍 | 第46-47页 |
| ·用TFCalc软件拟合光学常数n、k | 第47-48页 |
| ·复合薄膜制备 | 第48页 |
| ·复合薄膜性能分析 | 第48-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 5. 结论 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 附录 | 第61页 |
