| 摘要 | 第1-12页 |
| Abstract | 第12-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-33页 |
| 第一节 引言 | 第14-16页 |
| 第二节 半导体纳米材料光催化效应 | 第16-21页 |
| ·半导体和纳米材料 | 第16-18页 |
| ·半导体光催化性及反应机理 | 第18-20页 |
| ·光催化半导体材料的研究历史 | 第20-21页 |
| ·光催化半导体材料的实际应用 | 第21页 |
| 第三节 二氧化钛的材料特性 | 第21-29页 |
| ·二氧化钛材料的基本性质 | 第22-24页 |
| ·二氧化钛材料的光催化原理 | 第24-27页 |
| ·二氧化钛光催化效率的改善途径 | 第27-29页 |
| 第四节 本论文的研究内容 | 第29-31页 |
| 参考文献 | 第31-33页 |
| 第二章 样品的制备技术与测试分析方法 | 第33-45页 |
| 第一节 磁控溅射技术 | 第33-37页 |
| ·磁控溅射的原理 | 第33-35页 |
| ·磁控溅射镀膜的优缺点 | 第35-36页 |
| ·实验用磁控溅射设备简介 | 第36-37页 |
| 第二节 化学沉积技术 | 第37页 |
| ·化学沉积技术简介 | 第37页 |
| ·化学沉积制备粉末的优缺点 | 第37页 |
| 第三节 测试分析方法 | 第37-44页 |
| ·X射线衍射 | 第37-39页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第39-40页 |
| ·原子力显微镜 | 第40-41页 |
| ·紫外-可见光光谱 | 第41-42页 |
| ·光催化性能 | 第42-44页 |
| 参考文献 | 第44-45页 |
| 第三章 二氧化钛/氧化锑纳米复合物光催化材料的制备与表征 | 第45-53页 |
| 第一节 引言 | 第45页 |
| 第二节 二氧化钛/氧化锑纳米复合物光催化材料的制备与表征 | 第45-51页 |
| ·实验部分 | 第45-46页 |
| ·结构与形貌 | 第46-47页 |
| ·光催化特性 | 第47-50页 |
| ·紫外可见吸收谱 | 第50页 |
| ·二氧化钛/氧化锑纳米复合物光催化机理研究 | 第50-51页 |
| 第三节 本章总结 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-53页 |
| 第四章 二氧化钛/硫化锑纳米复合物材料的制备与表征 | 第53-62页 |
| 第一节 引言 | 第53-54页 |
| 第二节 不同形貌的二氧化钛/硫化锑纳米复合物材料的制备与表征 | 第54-60页 |
| ·实验部分 | 第54-55页 |
| ·结构与形貌 | 第55-58页 |
| ·结构对比 | 第56页 |
| ·光照对二氧化钛/硫化锑复合物的形貌影响 | 第56-57页 |
| ·硫化锑修饰的二氧化钛纳米带复合物的特殊形貌 | 第57-58页 |
| ·光催化特性 | 第58-59页 |
| ·紫外可见吸收谱 | 第59-60页 |
| 第三节 本章总结 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-62页 |
| 第五章 磁控溅射法制备CuBi_20_4薄膜材料的条件优化及其性能研究 | 第62-72页 |
| 第一节 引言 | 第62页 |
| 第二节 CuBi_2O_4薄膜材料的制备与表征 | 第62-68页 |
| ·实验部分 | 第62-63页 |
| ·结构与形貌 | 第63-67页 |
| ·紫外-可见光光谱 | 第67-68页 |
| 第三节 用磁控溅射法生长了负载Ag的CuBi_2O_4 | 第68-70页 |
| ·CuBi_2O_4/Ag的结构 | 第68-69页 |
| ·Ag/CuBi_2O_4/ZnO的光催化性能 | 第69-70页 |
| 第四节 本章总结 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-72页 |
| 第六章 总结与展望 | 第72-74页 |
| ·总结 | 第72-73页 |
| ·展望 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-76页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第76页 |
