基于真空条件下的材料发射率测试方案设计
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-8页 |
第1章 绪论 | 第8-14页 |
·课题背景及意义 | 第8-9页 |
·国外材料红外发射率测试的发展状况 | 第9-11页 |
·国内红外材料发射率测量的发展状况 | 第11-13页 |
·论文研究的主要内容 | 第13-14页 |
第2章 真空测量装置总体的设计 | 第14-35页 |
·真空冷背景模拟系统的设计 | 第14-21页 |
·真空容器参数的确定 | 第14-16页 |
·真空室壁厚计算 | 第16-17页 |
·热沉材料的选择 | 第17-18页 |
·液氮系统分析 | 第18-19页 |
·支撑部件和开孔补偿 | 第19-20页 |
·液氦系统设计 | 第20-21页 |
·测量方法的确定 | 第21-22页 |
·测量装置的设计 | 第22-27页 |
·测量原理 | 第24-25页 |
·样品分析与描述 | 第25-26页 |
·参考黑体的分析 | 第26-27页 |
·气氮温控系统的设计 | 第27-32页 |
·设备的性能要求 | 第30页 |
·液氮量的计算 | 第30-32页 |
·控制系统的设计 | 第32-34页 |
·本章小结 | 第34-35页 |
第3章 真空测量装置的光学系统的设计 | 第35-46页 |
·光学系统初始结构的确定 | 第35-36页 |
·红外光学材料的选择 | 第36-37页 |
·性能指标 | 第37-38页 |
·光学系统设计 | 第38-41页 |
·系统的传递函数 | 第39-40页 |
·系统的点列图 | 第40-41页 |
·扫描系统的设计 | 第41-43页 |
·扫描镜尺寸的确定 | 第41-43页 |
·扫描镜基底材料的选取 | 第43页 |
·分光系统的设计 | 第43-44页 |
·本章小结 | 第44-46页 |
第4章 被测材料的发射率与温度模型研究 | 第46-58页 |
·理论模型 | 第46-49页 |
·实际模型的建立 | 第49-52页 |
·指数发射率模型的建立 | 第49-51页 |
·线性发射率模型的建立 | 第51-52页 |
·利用两种模型对数据的分析处理 | 第52-57页 |
·两种模型对对未知材料发射率的逼近 | 第52-53页 |
·具有单调性质发射率与温度模型研究 | 第53-56页 |
·非单调性质发射率与温度的关系 | 第56-57页 |
·本章小结 | 第57-58页 |
第5章 误差分析 | 第58-66页 |
·引言 | 第58页 |
·探测器噪声引起的误差 | 第58-59页 |
·红外系统噪声模拟分析 | 第59-61页 |
·噪声等效温差的计算 | 第61-62页 |
·温控系统引起的误差 | 第62-65页 |
·试样的温度控制精度引起的误差 | 第62-63页 |
·黑体的温度控制精度 | 第63-64页 |
·环境的温度控制精度 | 第64页 |
·测量精度的提高 | 第64-65页 |
·本章小结 | 第65-66页 |
结论 | 第66-67页 |
参考文献 | 第67-71页 |
攻读学位期间发表的学术论文 | 第71-73页 |
致谢 | 第73页 |