| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-12页 |
| ·引言 | 第7页 |
| ·光学薄膜发展 | 第7-8页 |
| ·研究背景及内容 | 第8-12页 |
| 第二章 理论基础 | 第12-22页 |
| ·薄膜干涉原理 | 第12-15页 |
| ·单层介质薄膜 | 第15-19页 |
| ·多层介质薄膜 | 第19-22页 |
| 第三章 薄膜设计 | 第22-29页 |
| ·材料选取 | 第22-25页 |
| ·膜系的设计 | 第25-29页 |
| 第四章 薄膜制备 | 第29-41页 |
| ·薄膜设备 | 第29-31页 |
| ·膜厚监控原理 | 第31-34页 |
| ·蒸镀过程 | 第34-35页 |
| ·制备工艺 | 第35-37页 |
| ·基片清洗 | 第35页 |
| ·基片夹具设计 | 第35-36页 |
| ·镀膜过程中的注意事项 | 第36-37页 |
| ·离子源 | 第37-41页 |
| 第五章 测试与分析 | 第41-45页 |
| ·光谱测试与分析 | 第41-43页 |
| ·应力测试与分析 | 第43-44页 |
| ·膜层性能的测试 | 第44-45页 |
| 总结 | 第45-46页 |
| 致谢 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-49页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第49页 |