激光束时空双域整形技术研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-12页 |
| ·研究背景 | 第9-10页 |
| ·发展现状 | 第10页 |
| ·国外发展现状 | 第10页 |
| ·国内发展状况 | 第10页 |
| ·研究内容 | 第10-11页 |
| ·研究意义 | 第11-12页 |
| 2 激光调制技术 | 第12-16页 |
| ·内调制技术 | 第12-13页 |
| ·内调制的原理 | 第12-13页 |
| ·内调制的特点 | 第13页 |
| ·外调制技术 | 第13-14页 |
| ·外调制的原理 | 第13-14页 |
| ·外调制器的分类 | 第14页 |
| ·内调制和间接调制性能比较 | 第14-15页 |
| ·本章小结 | 第15-16页 |
| 3 半导体激光器的内调制技术研究 | 第16-35页 |
| ·半导体激光器 | 第16-18页 |
| ·半导体激光器的工作原理及应用 | 第17-18页 |
| ·半导体激光器的输出光功率-电流特性 | 第18-22页 |
| ·半导体激光器的内调制 | 第22-23页 |
| ·半导体激光器内调制技术难点 | 第23-27页 |
| ·调制频率与半导体激光器输出功率之间的关系 | 第23-25页 |
| ·调制频率与半导体阈值电流之间的关系 | 第25-26页 |
| ·温度对阈值电流和输出功率的影响 | 第26-27页 |
| ·半导体激光器内调制的实验部分及结果分析 | 第27-34页 |
| ·实验用半导体激光器简介 | 第27-28页 |
| ·连续变频正弦信号发生器简介 | 第28-30页 |
| ·实验系统的建立 | 第30-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 4 HE-NE激光器的电光调制技术研究 | 第35-55页 |
| ·电光调制原理 | 第35-38页 |
| ·电光效应 | 第35页 |
| ·铌酸锂晶体电光效应的折射率椭球表示 | 第35-38页 |
| ·电光调制的方式 | 第38-42页 |
| ·电光相位调制 | 第38-39页 |
| ·电光强度调制 | 第39-42页 |
| ·铌酸锂电光调制器 | 第42页 |
| ·半坡电压的测量及直流偏置对输出特性的影响 | 第42-46页 |
| ·电光晶体半坡电压的测量方法 | 第42-45页 |
| ·直流偏置对输出特性的影响 | 第45-46页 |
| ·电光调制器偏置工作点的设置方法 | 第46-48页 |
| ·加固定直流偏压设置工作点 | 第47页 |
| ·加入1/4波片设置工作点 | 第47-48页 |
| ·HE-NE激光器的电光调制实验及结果分析 | 第48-54页 |
| ·基于单片机的连续变频波形发生器的设计 | 第48-51页 |
| ·实验系统的建立 | 第51-54页 |
| ·误差产生的原因 | 第54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 5 空域整形技术的研究 | 第55-67页 |
| ·光斑能量分布的检测流程 | 第55-58页 |
| ·实验结果与分析 | 第58-59页 |
| ·空域整形技术方案 | 第59-61页 |
| ·光束空间整形的理论分析 | 第61-63页 |
| ·光波的自由空间传播的衍射光场 | 第61-62页 |
| ·基于空间滤波像传递的成像衍射 | 第62-63页 |
| ·基于液晶空间光调制器的激光光束整形实验 | 第63-66页 |
| ·液晶空间光调制器的调制特性 | 第63-64页 |
| ·空间整形的实验操作 | 第64-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 6 结论 | 第67-69页 |
| ·结论 | 第67页 |
| ·后期工作与展望 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-72页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-75页 |
