| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-33页 |
| ·光电子学的发展历程及其在未来科技中的地位 | 第8-12页 |
| ·硅基发光材料的发展历程及研究现状 | 第12-23页 |
| ·Ge/SiO_2复合薄膜体系简介 | 第23-29页 |
| ·本论文研究的主要内容 | 第29页 |
| 参考文献 | 第29-33页 |
| 第二章 Au/(Ge/SiO_2)/p-Si结构的制备 | 第33-41页 |
| ·Ge/SiO_2薄膜结构常用的制备方法 | 第33-39页 |
| ·Au/(Ge/SiO_2)/p-Si结构的制备 | 第39页 |
| 参考文献 | 第39-41页 |
| 第三章 Au/(Ge/SiO_2)/p-Si结构电流输运特性的研究 | 第41-51页 |
| ·Au/(Ge/SiO_2)/p-Si结构I-V特性曲线测量结果 | 第42-43页 |
| ·载流子输运机制分析常用模型简介 | 第43-45页 |
| ·Au/Ge/SiO_2/p-Si结构电流输运机制的分析 | 第45-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-51页 |
| 第四章 Au/(Ge/SiO_2)/p-Si结构电致发光特性的研究 | 第51-60页 |
| ·硅基薄膜电致发光研究的意义 | 第51-53页 |
| ·Au/(Ge/SiO_2)/p-Si结构电致发光的分析 | 第53-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-60页 |
| 第五章 总结与展望 | 第60-62页 |
| ·总结 | 第60页 |
| ·硅基发光材料的展望 | 第60-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 附录: 作者攻读硕士期间发表和已完成的论文 | 第63页 |
