热蒸发法制备厘米级ZnO晶须及特性研究
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
第一章 引言 | 第9-12页 |
第二章 ZnO的性质及应用前景 | 第12-30页 |
·ZnO的性质 | 第12-24页 |
·ZnO的晶体结构 | 第12-13页 |
·ZnO的晶格常数 | 第13页 |
·ZnO的能带结构 | 第13-14页 |
·ZnO的力学性质 | 第14-17页 |
·ZnO的热学性能 | 第17-19页 |
·未掺杂ZnO的电学性能 | 第19-22页 |
·ZnO气敏特性的应用 | 第22-23页 |
·ZnO压敏特性的应用 | 第23-24页 |
·ZnO光学性质 | 第24-30页 |
·ZnO中的光激发与吸收 | 第24-25页 |
·纳米ZnO的紫外激光发射 | 第25-27页 |
·ZnO的折射率 | 第27-30页 |
第三章 ZnO的制备方法 | 第30-37页 |
·ZnO块状晶体的生长 | 第30-31页 |
·ZnO低维材料的生长 | 第31-37页 |
·热蒸发法 | 第32-33页 |
·CVD和MOCVD法 | 第33页 |
·水热和溶剂热法 | 第33-34页 |
·自组装法 | 第34页 |
·模板法 | 第34-35页 |
·其他方法 | 第35-37页 |
第四章 ZnO晶须的测试 | 第37-40页 |
·X射线衍射仪(XRD) | 第37页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第37-38页 |
·透射电子显微镜(TEM) | 第38页 |
·荧光光谱(PL) | 第38-39页 |
·电阻测量 | 第39-40页 |
第五章 ZnO晶须的制备过程与结果讨论 | 第40-59页 |
·实验原理 | 第40页 |
·Si衬底的清洗 | 第40-41页 |
·还原剂对ZnO晶须生长的影响 | 第41-53页 |
·在石墨坩锅中生长ZnO晶须 | 第41-46页 |
·以C粉为还原剂生长ZnO晶须 | 第46-48页 |
·ZnO晶须的成核与生长 | 第48-50页 |
·不同ZnO:C对ZnO晶须生长的影响 | 第50-53页 |
·冷却机制对ZnO晶须生长的影响 | 第53-57页 |
·不同冷却机制对ZnO晶须生长的影响 | 第53-56页 |
·不同冷却机制对ZnO晶须生长的影响的理论分析 | 第56-57页 |
·本章小结 | 第57-59页 |
第六章 ZnO晶须的掺杂 | 第59-62页 |
·ZnO p型掺杂的研究进展 | 第59页 |
·Sb掺杂ZnO晶须的研究 | 第59-61页 |
·本章小结 | 第61-62页 |
第七章 ZnO晶须的特性研究 | 第62-65页 |
·ZnO晶须的光致发光性能 | 第62-63页 |
·ZnO晶须压敏特性的初步研究 | 第63-64页 |
·本章小结 | 第64-65页 |
第八章 结论 | 第65-66页 |
参考文献 | 第66-76页 |
附录Ⅰ.硕士生学习期间完成的论文 | 第76-77页 |
附录Ⅱ.致谢 | 第77页 |