摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-9页 |
第一章 绪论 | 第9-26页 |
1.1 文物所面临的危机 | 第9-10页 |
1.2 有机高分子材料在文物中的应用及要求 | 第10-15页 |
1.2.1 有机高分子材料在文物中的应用 | 第10-12页 |
1.2.1.1 文物粘合剂 | 第10页 |
1.2.1.2 文物加固剂 | 第10-11页 |
1.2.1.3 文物表面保护剂(封护剂) | 第11-12页 |
1.2.2 对文物保护用有机高分子材料的要求 | 第12-15页 |
1.2.2.1 对各种封护材料的要求 | 第13-14页 |
1.2.2.2 对加固剂的要求 | 第14页 |
1.2.2.3 对粘接材料的要求 | 第14-15页 |
1.3 高分子材料在文物应用中存在的问题 | 第15-17页 |
1.3.1 环氧树脂 | 第15-16页 |
1.3.2 丙烯酸树脂 | 第16页 |
1.3.3 有机硅材料 | 第16-17页 |
1.3.4 聚氨酯材料 | 第17页 |
1.4 对高分子材料稳定性研究现状 | 第17-19页 |
1.5 立题思路及意义 | 第19-20页 |
参考文献 | 第20-26页 |
第二章 样品的制备、方法及仪器 | 第26-34页 |
2.1 实验材料及试剂 | 第26-29页 |
2.1.1 Primal AC 33 | 第26页 |
2.1.2 B72 | 第26页 |
2.1.3 丙烯酸清漆 | 第26页 |
2.1.4 TDI型聚氨酯 | 第26-27页 |
2.1.5 HDI型聚氨酯 | 第27页 |
2.1.6 MDI型聚氨酯 | 第27-28页 |
2.1.7 环氧树脂 | 第28页 |
2.1.8 有机硅 | 第28-29页 |
2.1.9 试剂 | 第29页 |
2.2 样品制备 | 第29-30页 |
2.2.1 制板 | 第29页 |
2.2.2 制膜 | 第29-30页 |
2.2.2.1 溶液的制备 | 第29-30页 |
2.2.2.2 涂膜 | 第30页 |
2.3 实验方法 | 第30-32页 |
2.3.1 光老化 | 第30-31页 |
2.3.1.1 光源 | 第30-31页 |
2.3.1.2 老化方法 | 第31页 |
2.3.2 热老化 | 第31-32页 |
2.3.2.1 热源 | 第31-32页 |
2.3.2.2 老化方法 | 第32页 |
2.4 实验仪器及测试条件 | 第32-33页 |
2.4.1 实验仪器 | 第32页 |
2.4.2 测试条件 | 第32-33页 |
2.4.2.1 漫反射光谱法的测试条件 | 第32页 |
2.4.2.2 傅立叶变换-衰减全反射法的测试条件 | 第32-33页 |
参考文献 | 第33-34页 |
第三章 对高分子材料降解的跟踪监测及表征 | 第34-41页 |
3.1 漫反射光谱法 | 第34-38页 |
3.1.1 漫反射光谱的原理 | 第34-35页 |
3.1.2 材料的光稳定性 | 第35-36页 |
3.1.2.1 外观评价 | 第35页 |
3.1.2.2 色差值的变化 | 第35-36页 |
3.1.2.3 反射系数的变化 | 第36页 |
3.1.3 材料的热稳定性 | 第36-38页 |
3.1.3.1 外观评价 | 第36-37页 |
3.1.3.2 色差值的变化 | 第37页 |
3.1.3.3 反射系数的变化 | 第37-38页 |
3.2 接触角 | 第38页 |
3.3 涂膜硬度 | 第38-39页 |
3.4 粘度 | 第39页 |
3.5 小结 | 第39-40页 |
参考文献 | 第40-41页 |
第四章 降解机理的研究 | 第41-56页 |
4.1 光降解机理 | 第41-49页 |
4.1.1 丙烯酸类 | 第41-43页 |
4.1.2 聚氨酯类 | 第43-48页 |
4.1.2.1 TDI型聚氨酯 | 第43-45页 |
4.1.2.2 MDI型聚氨酯 | 第45-46页 |
4.1.2.3 HDI型聚氨酯 | 第46-48页 |
4.1.3 有机硅 | 第48页 |
4.1.4 环氧树脂 | 第48-49页 |
4.2 热降解机理 | 第49-53页 |
4.2.1 Primal AC33 | 第49-50页 |
4.2.2 B72和丙烯酸清漆 | 第50-51页 |
4.2.3 聚氨酯 | 第51-52页 |
4.2.4 有机硅 | 第52-53页 |
4.3 小结 | 第53-54页 |
参考文献 | 第54-56页 |
结论 | 第56-57页 |
在己完成工作的基础上,发表和待发表的文章 | 第57-58页 |
致谢 | 第58-59页 |
附录 | 第59-90页 |