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有机高分子文物保护材料稳定性研究

摘要第1-7页
Abstract第7-9页
第一章 绪论第9-26页
 1.1 文物所面临的危机第9-10页
 1.2 有机高分子材料在文物中的应用及要求第10-15页
  1.2.1 有机高分子材料在文物中的应用第10-12页
   1.2.1.1 文物粘合剂第10页
   1.2.1.2 文物加固剂第10-11页
   1.2.1.3 文物表面保护剂(封护剂)第11-12页
  1.2.2 对文物保护用有机高分子材料的要求第12-15页
   1.2.2.1 对各种封护材料的要求第13-14页
   1.2.2.2 对加固剂的要求第14页
   1.2.2.3 对粘接材料的要求第14-15页
 1.3 高分子材料在文物应用中存在的问题第15-17页
  1.3.1 环氧树脂第15-16页
  1.3.2 丙烯酸树脂第16页
  1.3.3 有机硅材料第16-17页
  1.3.4 聚氨酯材料第17页
 1.4 对高分子材料稳定性研究现状第17-19页
 1.5 立题思路及意义第19-20页
 参考文献第20-26页
第二章 样品的制备、方法及仪器第26-34页
 2.1 实验材料及试剂第26-29页
  2.1.1 Primal AC 33第26页
  2.1.2 B72第26页
  2.1.3 丙烯酸清漆第26页
  2.1.4 TDI型聚氨酯第26-27页
  2.1.5 HDI型聚氨酯第27页
  2.1.6 MDI型聚氨酯第27-28页
  2.1.7 环氧树脂第28页
  2.1.8 有机硅第28-29页
  2.1.9 试剂第29页
 2.2 样品制备第29-30页
  2.2.1 制板第29页
  2.2.2 制膜第29-30页
   2.2.2.1 溶液的制备第29-30页
   2.2.2.2 涂膜第30页
 2.3 实验方法第30-32页
  2.3.1 光老化第30-31页
   2.3.1.1 光源第30-31页
   2.3.1.2 老化方法第31页
  2.3.2 热老化第31-32页
   2.3.2.1 热源第31-32页
   2.3.2.2 老化方法第32页
 2.4 实验仪器及测试条件第32-33页
  2.4.1 实验仪器第32页
  2.4.2 测试条件第32-33页
   2.4.2.1 漫反射光谱法的测试条件第32页
   2.4.2.2 傅立叶变换-衰减全反射法的测试条件第32-33页
 参考文献第33-34页
第三章 对高分子材料降解的跟踪监测及表征第34-41页
 3.1 漫反射光谱法第34-38页
  3.1.1 漫反射光谱的原理第34-35页
  3.1.2 材料的光稳定性第35-36页
   3.1.2.1 外观评价第35页
   3.1.2.2 色差值的变化第35-36页
   3.1.2.3 反射系数的变化第36页
  3.1.3 材料的热稳定性第36-38页
   3.1.3.1 外观评价第36-37页
   3.1.3.2 色差值的变化第37页
   3.1.3.3 反射系数的变化第37-38页
 3.2 接触角第38页
 3.3 涂膜硬度第38-39页
 3.4 粘度第39页
 3.5 小结第39-40页
 参考文献第40-41页
第四章 降解机理的研究第41-56页
 4.1 光降解机理第41-49页
  4.1.1 丙烯酸类第41-43页
  4.1.2 聚氨酯类第43-48页
   4.1.2.1 TDI型聚氨酯第43-45页
   4.1.2.2 MDI型聚氨酯第45-46页
   4.1.2.3 HDI型聚氨酯第46-48页
  4.1.3 有机硅第48页
  4.1.4 环氧树脂第48-49页
 4.2 热降解机理第49-53页
  4.2.1 Primal AC33第49-50页
  4.2.2 B72和丙烯酸清漆第50-51页
  4.2.3 聚氨酯第51-52页
  4.2.4 有机硅第52-53页
 4.3 小结第53-54页
 参考文献第54-56页
结论第56-57页
在己完成工作的基础上,发表和待发表的文章第57-58页
致谢第58-59页
附录第59-90页

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