| 摘 要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 引言 | 第8-35页 |
| ·超导发展简史 | 第8-11页 |
| ·La2CuO4 体系相关的背景介绍 | 第11-19页 |
| ·La2CuO4 的晶体结构 | 第11-13页 |
| ·La2CuO4 的超导电性 | 第13-15页 |
| ·与 La2CuO4+δ相关的重要的物理现象 | 第15-18页 |
| ·La2CuO4 的掺氧 | 第18-19页 |
| ·La2CuO4 薄膜的研究背景 | 第19-31页 |
| ·La2-xMxCuO4 薄膜 | 第20-23页 |
| ·La2CuO4+ 薄膜 | 第23-24页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD)的基本原理 | 第24-27页 |
| ·PLD 镀膜的工艺参数 | 第27-31页 |
| ·小结 | 第31-32页 |
| ·本论文的研究目的 | 第32-33页 |
| ·实验设备及测试手段 | 第33-35页 |
| 第二章 CuO 蒸气掺杂制备 La2CuO4+ 及其电磁特性 | 第35-50页 |
| ·引言 | 第35页 |
| ·样品制备 | 第35-36页 |
| ·CuO 蒸气掺杂制备 La2CuO4+ :Ⅰ.增强的 Josephson 耦合效应 | 第36-42页 |
| ·CuO 蒸气掺杂制备 La2CuO4+ :Ⅱ.反常的低温电阻行为 | 第42-45页 |
| ·CuO 蒸气掺杂制备 La2CuO4+ :Ⅲ.中间温度弱磁转变 | 第45-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第三章 La2CuO4外延薄膜的化学氧化 | 第50-67页 |
| ·引言 | 第50页 |
| ·La2CuO4 外延薄膜制备及其化学氧化 | 第50-55页 |
| ·La2CuO4 薄膜氧化过程中的时间效应 | 第55-60页 |
| ·La2CuO4 薄膜化学氧化过程氧掺入的证据及氧存在的形态 | 第60-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 第四章 c 轴织构的 La2CuO4薄膜的制备和化学氧化 | 第67-83页 |
| ·引言 | 第67页 |
| ·c 轴织构的 La2CuO4 薄膜的制备和化学氧化:(1)结构和超导性能 | 第67-74页 |
| ·c 轴织构的 La2CuO4 薄膜的制备和化学氧化:(2)形貌观察 | 第74-81页 |
| ·本章小结 | 第81-83页 |
| 第五章 Ag 掺杂的 La2CuO4陶瓷和薄膜 | 第83-95页 |
| ·引言 | 第83页 |
| ·Ag 掺杂的 La2CuO4 陶瓷 | 第83-89页 |
| ·Ag 掺杂的 La2CuO4 薄膜 | 第89-94页 |
| ·本章小结 | 第94-95页 |
| 第六章 总结 | 第95-97页 |
| 参考文献 | 第97-109页 |
| 致谢及声明 | 第109-110页 |
| 个人简历、在学期间发表的论文 | 第110-111页 |
