RF AlN薄膜体声波谐振器
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract(英文摘要) | 第4-6页 |
| 目 录 | 第6-8页 |
| 第一章 引 言 | 第8-15页 |
| ·薄膜体声波谐振器的背景 | 第8-10页 |
| ·TFBAR的发展现状 | 第10-12页 |
| ·本论文的研究目的和内容 | 第12-15页 |
| 第二章 TFBAR的原理和结构 | 第15-27页 |
| ·TFBAR的原理和结构 | 第15-17页 |
| ·TFBAR构造的滤波器的原理和结构 | 第17-19页 |
| ·TFBAR的电学特性 | 第19-23页 |
| ·TFBAR中压电薄膜的选择及制备 | 第23-27页 |
| 第三章 TFBAR中AlN薄膜的制备和表征 | 第27-52页 |
| ·AlN薄膜制备设备 | 第27-28页 |
| ·初始溅射工艺条件 | 第28-29页 |
| ·薄膜的初始质量 | 第29-32页 |
| ·初始薄膜工艺条件分析 | 第32-37页 |
| ·系统和工艺的改进 | 第37-39页 |
| ·最终的工艺过程和膜的质量 | 第39-42页 |
| ·薄膜制备的总结 | 第42-50页 |
| ·AlN薄膜的直流和低频特性 | 第50-52页 |
| 第四章 AlN TFBAR的制作工艺 | 第52-66页 |
| ·器件的结构和工艺设计 | 第52-54页 |
| ·工艺流程 | 第54-56页 |
| ·工艺的总结和建议 | 第56-66页 |
| 第五章 TFBAR器件的建模 | 第66-93页 |
| ·简单谐振器的阻抗 | 第66-78页 |
| ·复合谐振器的阻抗 | 第78-82页 |
| ·AlN TFBAR阻抗模拟 | 第82-84页 |
| ·AlN TFBAR频响特性的模拟 | 第84-89页 |
| ·AlN TFBAR的Q值 | 第89-91页 |
| ·Butterworth Van-Dyke模型 | 第91-93页 |
| 第六章 TFBAR器件的频响特性测试 | 第93-98页 |
| ·S参数的测试 | 第93-95页 |
| ·器件频响的模拟和测试结果的比较 | 第95-96页 |
| ·影响器件频响特性的因素 | 第96-98页 |
| 第七章 结论 | 第98-101页 |
| ·论文工作的主要内容 | 第98-99页 |
| ·论文工作的主要成果 | 第99页 |
| ·对进一步研究工作的展望 | 第99-101页 |
| 参考文献 | 第101-104页 |
| 致谢、声明 | 第104-105页 |
| 附录 AlN TFBAR的工艺流程卡 | 第105-107页 |
| 个人简历、在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第107页 |
