半导体氧化物膜材料光催化性能及机理研究
| 前言 | 第1-9页 |
| 第一章 文献综述 | 第9-28页 |
| ·膜材料概述 | 第9-14页 |
| ·膜材料的特性 | 第9页 |
| ·无机膜材料的制备方法 | 第9-11页 |
| ·基底材料的选择 | 第11-12页 |
| ·TiO2膜的应用前景 | 第12-14页 |
| ·降解有机污染物的半导体氧化物光催化膜 | 第14-17页 |
| ·半导体氧化物薄膜光催化降解有机污染物研究现状 | 第14-15页 |
| ·半导体氧化物薄膜光催化反应机理 | 第15-17页 |
| ·半导体氧化物薄膜光致亲水性研究 | 第17-22页 |
| ·TiO2膜的光致亲水性现象及机理 | 第17-19页 |
| ·接触角与亲水性 | 第19-20页 |
| ·影响接触角测量的因素 | 第20页 |
| ·影响光致亲水性的因素 | 第20-22页 |
| ·半导体氧化物薄膜的改性 | 第22-24页 |
| ·提高光催化降解活性 | 第22-23页 |
| ·提高光致亲水性的措施 | 第23-24页 |
| ·改善薄膜的表面形貌 | 第23-24页 |
| ·高蓄水性材料掺杂 | 第24页 |
| ·金属离子掺杂 | 第24页 |
| ·异质结 | 第24-27页 |
| ·异质结能带图 | 第24-26页 |
| ·异质结在光催化中的应用 | 第26-27页 |
| ·本课题的研究依据 | 第27-28页 |
| 第二章 实验方法 | 第28-34页 |
| ·主要设备及试剂 | 第28-29页 |
| ·主要试剂 | 第28页 |
| ·主要设备及仪器 | 第28-29页 |
| ·样品的制备 | 第29-30页 |
| ·负载膜的性能评价 | 第30页 |
| ·光催化降解亚甲基兰 | 第30页 |
| ·光致亲水性 | 第30页 |
| ·膜的表征 | 第30-34页 |
| ·X射线衍射 | 第30页 |
| ·瞬态光电导谱与少子寿命 | 第30-32页 |
| ·俄歇电子能谱 | 第32页 |
| ·X射线荧光 | 第32-33页 |
| ·原子吸收光谱 | 第33页 |
| ·原子力显微镜 | 第33页 |
| ·紫外-可见-近红外分光光度计 | 第33-34页 |
| 第三章 半导体氧化物薄膜的本征接触角 | 第34-43页 |
| ·TiO2、Fe2O3、ZnO负载膜的初始角 | 第34-35页 |
| ·负载膜基底XRF元素分析 | 第35-37页 |
| ·洗脱液的元素分析 | 第37-38页 |
| ·基底无Na＋负载膜掺Na＋后的初始角 | 第38-39页 |
| ·TiO2、Fe2O3、ZnO负载膜的光致亲水性 | 第39-41页 |
| ·半导体氧化物的本征接触角 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 异质结构对光催化性能的影响及机理研究 | 第43-59页 |
| ·光催化复合膜的性能研究 | 第43-46页 |
| ·光催化复合膜的表面 | 第46-54页 |
| ·表面元素分析 | 第46-49页 |
| ·复合膜的表面形貌 | 第49-54页 |
| ·能带模型的建立及分析 | 第54-56页 |
| ·少数载流子寿命值的测定 | 第56-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 结论 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 个人简历 | 第66页 |
| 发表文章目录 | 第66页 |
