| 第一章 文献综述 | 第1-36页 |
| ·纳米材料的兴起与发展 | 第10页 |
| ·纳米颗粒的基本性质 | 第10-12页 |
| ·纳米颗粒的物理特性 | 第12页 |
| ·纳米颗粒的应用 | 第12-14页 |
| ·纳米材料的主要制备方法 | 第14-19页 |
| ·固相法 | 第14页 |
| ·液相法 | 第14-17页 |
| ·气相法 | 第17-19页 |
| ·纳米CeO_2的概述 | 第19-25页 |
| ·CeO_2的资源状况 | 第19页 |
| ·CeO_2的结构及性质 | 第19-20页 |
| ·纳米CeO_2的用途 | 第20-23页 |
| ·纳米CeO_2制备的国内外研究现状 | 第23-25页 |
| ·化学机械抛光(CMP)技术概述 | 第25-30页 |
| ·CMP简介 | 第25-26页 |
| ·CMP技术设备及其消耗品 | 第26页 |
| ·CMP技术的发展及其现状 | 第26-28页 |
| ·CMP机理 | 第28页 |
| ·CMP浆料 | 第28-30页 |
| ·分散技术概述 | 第30-35页 |
| ·超细粉体在液相中的分散 | 第30-34页 |
| ·分散的方法 | 第34-35页 |
| ·本论文的研究意义 | 第35-36页 |
| 第二章 纳米CeO_2制备工艺研究 | 第36-49页 |
| ·实验试剂 | 第36页 |
| ·实验仪器与设备 | 第36-37页 |
| ·合成实验方法 | 第37页 |
| ·CeO_2表征方法 | 第37-39页 |
| ·实验结果与讨论 | 第39-47页 |
| ·影响CeO_2颗粒尺寸的工艺因素 | 第39-44页 |
| ·前驱体的DTA及XRD分析 | 第44-46页 |
| ·纳米CeO_2的表征结果 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 第三章 焙烧过程中纳米CeO_2晶粒生长行为研究 | 第49-62页 |
| ·实验方法 | 第49页 |
| ·结果与讨论 | 第49-61页 |
| ·焙烧温度对纳米CeO_2晶粒生长行为的影响 | 第49-54页 |
| ·焙烧时间对CeO_2晶粒生长行为的影响 | 第54-58页 |
| ·CeO_2晶粒生长动力学研究 | 第58-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第四章 纳米CeO_2在水相体系中的分散性研究 | 第62-72页 |
| ·实验试剂 | 第62页 |
| ·实验仪器与设备 | 第62页 |
| ·实验方法 | 第62-64页 |
| ·结果与讨论 | 第64-70页 |
| ·CeO_2在不同pH的水相体系中的润湿性及Zeta电位 | 第64-66页 |
| ·CeO_2在水溶液中的分散性的研究 | 第66-70页 |
| ·本章小结 | 第70-72页 |
| 第五章 结论 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
| 攻读硕士学位期间主要的研究成果 | 第81页 |