| 第一章 文献综述 | 第1-30页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·有机光电导材料 | 第9-12页 |
| ·光电导材料 | 第9-10页 |
| ·有机光电导材料 | 第10-11页 |
| ·有机光电导理论 | 第11-12页 |
| ·酞菁类有机光电导材料简介 | 第12-17页 |
| ·酞菁化合物的合成及纯化 | 第12-14页 |
| ·酞菁金属配合物的结构及晶型 | 第14-15页 |
| ·酞菁金属配合物的UV-VIS吸收谱 | 第15-17页 |
| ·酞菁材料的应用 | 第17-22页 |
| ·光伏打效应的应用 | 第17-18页 |
| ·酞菁金属配合物在电致发光性方面的应用 | 第18-19页 |
| ·酞菁在电致变色器件方面的应用 | 第19-20页 |
| ·酞菁在液晶方面的应用 | 第20页 |
| ·酞菁在非线性光学方面的应用 | 第20-21页 |
| ·酞菁的气敏性应用 | 第21-22页 |
| ·酞菁类材料的发展前景 | 第22-25页 |
| ·复合酞菁材料 | 第22-23页 |
| ·酞菁类有机超晶格材料 | 第23页 |
| ·酞菁类纳米材料 | 第23-25页 |
| ·问题的提出 | 第25-26页 |
| ·氧化锌(ZnO)的基本结构与光电性能 | 第26-28页 |
| ·氧化锡(SnO_2)的基本结构与光电性能 | 第28-30页 |
| 第二章 实验设备与样品制备 | 第30-35页 |
| ·实验设备 | 第30-32页 |
| ·真空薄膜沉积系统 | 第30-31页 |
| ·溶胶凝胶(sol-gel)薄膜制备系统 | 第31-32页 |
| ·真空蒸发制备酞菁薄膜 | 第32页 |
| ·sol-gel法制备ZnO，SnO_2薄膜 | 第32-33页 |
| ·提拉制备ZnO薄膜 | 第32页 |
| ·提拉制备SnO_2薄膜 | 第32-33页 |
| ·薄膜的表征手段 | 第33-35页 |
| ·紫外-可见(UV-VIS)吸收光谱 | 第33页 |
| ·X光电子能谱(XPS) | 第33-34页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第34页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第34-35页 |
| 第三章 磁场对酞菁氧钒薄膜性质的影响 | 第35-42页 |
| ·酞菁氧钒的基本结构 | 第35-36页 |
| ·磁场下热处理VOPc薄膜 | 第36页 |
| ·结果与分析 | 第36-40页 |
| ·对真空沉积VOPc薄膜的研究 | 第36-38页 |
| ·磁场对VOPc薄膜性质的影响 | 第38-40页 |
| ·本章结论 | 第40-42页 |
| 第四章 磁场对酞菁铅单层光电导体性能的影响 | 第42-52页 |
| ·光电导器件 | 第42-43页 |
| ·酞菁铅(PbPc)单层光电导体的制备 | 第43-45页 |
| ·单层光电导体原料的制备与纯化 | 第43-44页 |
| ·酞菁铅(PbPc)单层光电导体的制备 | 第44-45页 |
| ·光电导性能测试原理 | 第45-46页 |
| ·酞菁铅(PbPc)单层光电导体的光电导性能 | 第46-47页 |
| ·磁场热处理对PbPc薄膜的影响 | 第47-50页 |
| ·紫外-可见吸收光谱 | 第47-49页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第49-50页 |
| ·表面形貌分析 | 第50页 |
| ·本章结论 | 第50-52页 |
| 第五章 ZnO／PbPc复合膜光吸收性能的研究 | 第52-58页 |
| ·样品的制备 | 第52页 |
| ·ZnO／PbPc复合膜的分析与测试 | 第52-53页 |
| ·结果与分析 | 第53-57页 |
| ·紫外-可见吸收光谱 | 第53-54页 |
| ·X射线衍射分析(XRD) | 第54-55页 |
| ·讨论 | 第55-57页 |
| ·本章结论 | 第57-58页 |
| 第六章 SnO_2／PbPc纳米超晶格结构光吸收性能的研究 | 第58-62页 |
| ·SnO_2／PbPc纳米超晶格结构的制备 | 第58-59页 |
| ·SnO_2／PbPc超晶格结构的分析与测试 | 第59页 |
| ·结果与分析 | 第59-61页 |
| ·紫外-可见吸收光谱 | 第59-60页 |
| ·X射线衍射分析(XRD) | 第60页 |
| ·讨论 | 第60-61页 |
| ·本章结论 | 第61-62页 |
| 第七章 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-71页 |
| 攻读硕士期间完成的学术论文 | 第71-73页 |
| 致谢 | 第73页 |