摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-9页 |
第一章 文献综述 | 第9-39页 |
·金属钯复合膜的研究进展 | 第10-22页 |
·金属钯复合膜的研究现状 | 第10-11页 |
·钯膜透氢原理以及影响因素 | 第11-13页 |
·钯复合膜的主要制备方法 | 第13-22页 |
·化学镀(EP) | 第13-19页 |
·化学气相沉积(CVD) | 第19-21页 |
·物理气相沉积(PVD) | 第21页 |
·超临界流体沉积法(SFD) | 第21-22页 |
·超临界流体条件下制备钯膜 | 第22-32页 |
·超临界流体特性 | 第22-26页 |
·超临界流体的应用 | 第26-27页 |
·超临界流体中制备复合材料 | 第27-32页 |
·钯膜以连续的形式沉积在载体表面或孔道当中 | 第27-29页 |
·纳米钯金属颗粒/载体复合材料的制备 | 第29-32页 |
·钯复合膜材料的应用 | 第32-38页 |
·本课题的研究内容及意义 | 第38-39页 |
第二章 氧化铝载体上钯膜的制备与表征 | 第39-58页 |
·α-Al_2O_3载体的制备 | 第39-42页 |
·实验试剂及仪器 | 第39页 |
·α-Al_2O_3载体的制备 | 第39-40页 |
·表征结果 | 第40-42页 |
·试验设备以及操作流程 | 第42-45页 |
·实验设备 | 第42-44页 |
·试验步骤 | 第44-45页 |
·实验设计 | 第45-48页 |
·前驱体和还原剂的选用 | 第45-48页 |
·实验模型设想 | 第48页 |
·结果与讨论 | 第48-57页 |
·原料的的选择 | 第48-52页 |
·扩散时间的影响 | 第52-54页 |
·引入晶种对成膜的影响 | 第54-57页 |
·焙烧的影响 | 第57页 |
·本章小结 | 第57-58页 |
第三章 氧化锆载体上钯膜的制备与表征 | 第58-69页 |
·前言 | 第58页 |
·氧化锆膜的制备与表征 | 第58-60页 |
·实验试剂 | 第59页 |
·实验步骤 | 第59页 |
·表征手段 | 第59-60页 |
·结果与讨论 | 第60-67页 |
·前驱体的选择 | 第60-61页 |
·SiO_2加入量对膜性能的影响 | 第61-62页 |
·高温热稳定性的研究 | 第62-67页 |
·在氧化锆中间层上超临界流体沉积 | 第67-68页 |
·本章小结 | 第68-69页 |
第四章 分子筛载体上钯膜的制备与表征 | 第69-81页 |
·前言 | 第69-70页 |
·Silicalite-1 以及SAPO-5 分子筛膜的合成 | 第70-72页 |
·Silicalite-1 分子筛膜的制备 | 第70页 |
·SAPO-5 分子筛膜的制备 | 第70页 |
·分子筛膜的表征 | 第70-72页 |
·超临界法沉积金属钯颗粒 | 第72-79页 |
·实验模型 | 第72-73页 |
·结果与讨论 | 第73-79页 |
·本章小结 | 第79-81页 |
第五章 渗透实验 | 第81-95页 |
·前言 | 第81页 |
·实验材料及设备 | 第81页 |
·实验结果与讨论 | 第81-92页 |
·Pd/Al_2O_3复合膜气体渗透行为 | 第81-87页 |
·Pd/silicate-1/Al_2O_3复合膜气体渗透行为 | 第87-90页 |
·Pd/SAPO-5/Al_2O_3复合膜气体渗透行为 | 第90-91页 |
·Pd/ZrO_2/Al_2O_3复合膜气体渗透行为 | 第91-92页 |
·本章小结 | 第92-95页 |
第六章 结论 | 第95-96页 |
参考文献 | 第96-112页 |
发表论文和科研情况说明 | 第112-113页 |
致谢 | 第113页 |