熔融SiO2中氧同位素扩散的分子动力学模拟
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·石英晶体 | 第10-13页 |
| ·扩散系数研究 | 第13-17页 |
| ·表象理论 | 第13-14页 |
| ·扩散的原子理论 | 第14-15页 |
| ·影响扩散的因素 | 第15-17页 |
| 第二章 研究方法 | 第17-25页 |
| ·分子动力学理论 | 第17-19页 |
| ·力场 | 第17页 |
| ·统计系综 | 第17-18页 |
| ·周期性边界条件 | 第18-19页 |
| ·扩散系数的分子动力学计算 | 第19-21页 |
| ·DL_POLY软件介绍 | 第21-25页 |
| 第三章 模拟过程 | 第25-29页 |
| ·势函数及其参数 | 第25-26页 |
| ·模型构建 | 第26页 |
| ·模拟步骤 | 第26-27页 |
| ·均方位移的采样间隔 | 第27-29页 |
| 第四章 结果与讨论 | 第29-60页 |
| ·不含~(18)O的N-4500体系 | 第29-36页 |
| ·熔融SiO_2的结构 | 第30-34页 |
| ·扩散系数的计算 | 第34-36页 |
| ·含~(18)O的N-4500体系 | 第36-41页 |
| ·体系中~(18)O所占比率的影响 | 第36-41页 |
| ·N-108000大体系的计算 | 第41-60页 |
| ·N-108000体系熔融SiO_2的结构 | 第42-45页 |
| ·元素扩散系数 | 第45-49页 |
| ·可视化分析和缺陷控制运移机制 | 第49-54页 |
| ·配位数的计算 | 第54-60页 |
| 第五章 总结 | 第60-63页 |
| ·主要结论 | 第60-62页 |
| ·创新点 | 第62页 |
| ·展望 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
