椭偏法测量光学薄膜参数的理论研究与分析
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第1章 前言 | 第7-13页 |
| ·椭偏技术发展简史 | 第7-8页 |
| ·椭偏技术在我国的发展 | 第8页 |
| ·椭偏技术的优势 | 第8-9页 |
| ·椭偏技术的应用 | 第9页 |
| ·椭偏技术的发展趋势 | 第9-11页 |
| ·本文的主要研究工作 | 第11-13页 |
| 第2章 光学薄膜椭圆偏振测量的基本原理 | 第13-21页 |
| ·菲涅尔反射系数 | 第13-16页 |
| ·光在两种均匀、各向同性介质界面上的反射 | 第13-14页 |
| ·光在介质薄膜上的反射 | 第14-16页 |
| ·椭圆偏振测量原理 | 第16-20页 |
| ·光在薄膜表面反射对偏振态的改变 | 第16-18页 |
| ·反射系数比与椭偏参数 | 第18-19页 |
| ·椭偏分析 | 第19-20页 |
| ·本章小结 | 第20-21页 |
| 第3章 光学薄膜系统的模型 | 第21-37页 |
| ·建立适当模型 | 第21页 |
| ·建立薄膜系统模型 | 第21-26页 |
| ·结构模型 | 第22-23页 |
| ·色散模型 | 第23-25页 |
| ·模型参数的相关性 | 第25-26页 |
| ·测量灵敏度区域 | 第26-35页 |
| ·椭偏参数随薄膜参数变化时灵敏度的比较 | 第26-28页 |
| ·椭圆偏振测量中的薄膜厚度 | 第28-31页 |
| ·选择合适的入射角 | 第31-35页 |
| ·选择合适的模型参数的初始值 | 第35页 |
| ·本章小结 | 第35-37页 |
| 第4章 椭圆偏振测量的数据处理 | 第37-49页 |
| ·椭偏测量数据处理概述 | 第37-39页 |
| ·模拟退火算法的思想和基本原理 | 第39-40页 |
| ·评价函数 | 第40页 |
| ·模拟退火法计算薄膜参数 | 第40-43页 |
| ·模拟退火算法计算薄膜参数的原理 | 第40-42页 |
| ·模拟退火算法的参数选择 | 第42-43页 |
| ·拟合结果评价 | 第43-44页 |
| ·数据处理程序设计 | 第44-47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 第5章 薄膜样品参数的拟合计算 | 第49-59页 |
| ·薄膜样品 | 第49页 |
| ·薄膜样品光学参数的计算 | 第49-57页 |
| ·标准样品的椭偏参数 | 第49-52页 |
| ·模型建立 | 第50页 |
| ·椭偏数据拟合分析 | 第50-52页 |
| ·玻璃基底样品的椭偏参数 | 第52-55页 |
| ·模型建立 | 第52页 |
| ·椭圆数据拟合分析 | 第52-55页 |
| ·单层TiO_2模样品的拟合计算 | 第55-57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 第6章 全文总结 | 第59-61页 |
| 致谢 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 攻读硕士学位期间发表的文章 | 第67-68页 |
