摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-10页 |
第一章 绪论 | 第10-14页 |
第二章 洛仑兹介质薄层的FDTD处理:一维问题 | 第14-30页 |
·洛仑兹介质薄层在自由空间中的情形 | 第14-21页 |
·色散介质薄层所在元胞处磁场迭代式的修正 | 第14-16页 |
·色散介质薄层所在元胞处电场迭代式的修正 | 第16-18页 |
·分层介质反射计算的连分数法 | 第18页 |
·数值结果 | 第18-21页 |
·金属基底洛仑兹介质薄涂层问题的处理 | 第21-29页 |
·电场E的修正 | 第21-25页 |
·磁场H的修正 | 第25页 |
·阻抗边界条件解 | 第25页 |
·数值结果及分析 | 第25-29页 |
·本章小结 | 第29-30页 |
第三章 等离子体及其薄涂层问题的移位算子法处理 | 第30-48页 |
·移位算子法简介 | 第30-32页 |
·等离子体中电波传播特点 | 第32-39页 |
·介电系数 | 第32-35页 |
·高通滤波性 | 第35-39页 |
·薄层中的等效复介电常数 | 第39-41页 |
·自由空间中的等离子体薄层 | 第39页 |
·金属衬底等离子体薄层 | 第39-41页 |
·移位算子法处理 | 第41-43页 |
·自由空间中的等离子体薄层 | 第41-42页 |
·金属衬底等离子体薄层 | 第42-43页 |
·数值结果 | 第43-46页 |
·本章小结 | 第46-48页 |
第四章 色散介质薄涂层问题处理的通用方法 | 第48-62页 |
·常见色散介质模型及其介电系数表达式 | 第48-49页 |
·电磁场节点的修正 | 第49-57页 |
·金属衬底色散介质薄层 | 第49-55页 |
·真空中的色散介质薄层 | 第55-57页 |
·算例 | 第57-60页 |
·本章小结 | 第60-62页 |
第五章 等离子体复合目标散射特性的 FDTD 并行计算 | 第62-74页 |
·并行的基本理论 | 第62-66页 |
·并行机分类 | 第62-63页 |
·并行平台 | 第63-64页 |
·消息传递模式 | 第64页 |
·MPI 并行程序模式 | 第64-65页 |
·SO-FDTD 并行计算的数据通信 | 第65-66页 |
·数值算例验证 | 第66-70页 |
·非色散介质 | 第66-67页 |
·色散介质 | 第67-68页 |
·金属与等离子体复合介质 | 第68-70页 |
·电大尺寸复合介质目标的RCS 并行计算 | 第70-73页 |
·目标模型的建立 | 第70-73页 |
·小结 | 第73-74页 |
结束语 | 第74-76页 |
致谢 | 第76-78页 |
参考文献 | 第78-84页 |
作者在读期间的研究成果 | 第84-85页 |