| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-19页 |
| ·透明导电薄膜简介 | 第9-11页 |
| ·ZnO基透明导电薄膜 | 第11-12页 |
| ·基本性质 | 第11页 |
| ·研究现状 | 第11-12页 |
| ·ZnO基透明导电薄膜的应用 | 第12-13页 |
| ·在平板显示器上的应用 | 第12页 |
| ·在太阳能电池方面的应用 | 第12-13页 |
| ·在电磁屏蔽方面的应用 | 第13页 |
| ·在气敏传感器方面的应用 | 第13页 |
| ·透明导电薄膜的发展展望 | 第13页 |
| ·ZnO基透明导电薄膜的制备方法 | 第13-17页 |
| ·磁控溅射法(Magnetron sputtering) | 第14页 |
| ·真空蒸发沉积法(VED) | 第14页 |
| ·分子束外延法(MBE) | 第14-15页 |
| ·金属有机物化学气相沉积(MOCVD) | 第15页 |
| ·喷雾热分解法(Spray pyrolysis) | 第15页 |
| ·溶胶-凝胶法(Sol-gel) | 第15-17页 |
| ·课题研究的意义和主要内容 | 第17-19页 |
| 第二章 溶胶-凝胶法制备TZO薄膜及其热处理 | 第19-25页 |
| ·溶胶体系的选择 | 第19页 |
| ·掺杂剂的选择 | 第19-20页 |
| ·实验原料及仪器设备 | 第20-21页 |
| ·实验原料 | 第20-21页 |
| ·实验设备与器材 | 第21页 |
| ·TZO薄膜试样制备流程 | 第21-22页 |
| ·TZO薄膜的制备 | 第22-25页 |
| ·溶胶的配制 | 第22-23页 |
| ·玻璃基片的清洗 | 第23页 |
| ·旋涂法制备TZO薄膜 | 第23-24页 |
| ·TZO薄膜的热处理 | 第24-25页 |
| 第三章 结果与分析 | 第25-43页 |
| ·TZO薄膜的晶体结构分析 | 第25-30页 |
| ·Sn的掺杂浓度对薄膜的结构的影响 | 第25-27页 |
| ·热处理温度对薄膜晶体结构的影响 | 第27-29页 |
| ·溶胶浓度对TZO薄膜晶体结构的影响 | 第29-30页 |
| ·TZO薄膜的表面形貌(SEM)分析 | 第30-33页 |
| ·Sn掺杂浓度对薄膜表面形貌影响 | 第30-31页 |
| ·不同热处理温度对薄膜表面形貌的影响 | 第31-32页 |
| ·不同溶胶浓度对薄膜表面形貌的影响 | 第32-33页 |
| ·TZO薄膜的电学性能分析 | 第33-37页 |
| ·Sn掺杂浓度对薄膜电学性能的影响 | 第34-35页 |
| ·热处理温度对薄膜电学性能的影响 | 第35-36页 |
| ·溶胶浓度对薄膜电学性能的影响 | 第36-37页 |
| ·TZO薄膜的光学性能分析 | 第37-43页 |
| ·Sn掺杂浓度对薄膜光学性能的影响 | 第38-40页 |
| ·热处理温度对薄膜光学性能的影响 | 第40-42页 |
| ·溶胶浓度对薄膜光学性能的影响 | 第42-43页 |
| 第四章 结论与工作展望 | 第43-47页 |
| ·总结 | 第43-45页 |
| ·创新之处 | 第45页 |
| ·工作展望 | 第45-47页 |
| 参考文献 | 第47-52页 |
| 在研究生期间发表的论文 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53页 |