| 摘要 | 第1-9页 |
| Abstract | 第9-12页 |
| 第一章 引言 | 第12-30页 |
| ·纳米材料概述 | 第12-13页 |
| ·纳米薄膜简介 | 第13-14页 |
| ·纳米薄膜的制备方法 | 第14-16页 |
| ·磁学基础 | 第16-21页 |
| ·物质磁性起源和分类 | 第16-17页 |
| ·磁学基本概念 | 第17-19页 |
| ·亚铁磁性的基本理论 | 第19-20页 |
| ·薄膜的磁学特性 | 第20-21页 |
| ·铁氧体材料简介 | 第21-24页 |
| ·尖晶石的晶体结构 | 第21-23页 |
| ·尖晶石型Zn_xFe_(3-x)O_4和Ni_xFe_(3-x)O_4复合铁氧体 | 第23-24页 |
| ·研究背景及意义 | 第24-26页 |
| 参考文献 | 第26-30页 |
| 第二章 样品的制备及表征 | 第30-39页 |
| ·样品的制备原理 | 第30页 |
| ·样品的制备 | 第30-33页 |
| ·尖晶石型Zn_xFe_(3-x)O_4铁氧体薄膜的制备 | 第31-32页 |
| ·基底的制备 | 第31页 |
| ·Zn_xFe_(3-x)O_4铁氧体薄膜的制备 | 第31-32页 |
| ·尖晶石型Ni_xFe_(3-x)O_4铁氧体薄膜的制备 | 第32-33页 |
| ·基底的制备 | 第32页 |
| ·Ni_xFe_(3-x)O_4铁氧体薄膜的制备 | 第32-33页 |
| ·样品的表征 | 第33-38页 |
| ·pH计 | 第33页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第33-34页 |
| ·原子发射光谱(ICP-AES) | 第34页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第34-35页 |
| ·Raman光谱仪 | 第35-36页 |
| ·振动样品磁强计(VSM) | 第36-38页 |
| 参考文献 | 第38-39页 |
| 第三章 尖晶石型Zn_xFe_(3-x)O_4铁氧体薄膜结构与性能分析 | 第39-52页 |
| ·Zn_xFe_(3-x)O_4铁氧体薄膜反应液pH变化分析 | 第39-40页 |
| ·Zn_xFe_(3-x)O_4铁氧体薄膜成份分析 | 第40-41页 |
| ·Zn_xFe_(3-x)O_4铁氧体薄膜X射线衍射分析 | 第41-43页 |
| ·Zn_xFe_(3-x)O_4铁氧体薄膜扫描电镜分析 | 第43-45页 |
| ·Zn_xFe_(3-x)O_4铁氧体薄膜Raman光谱分析 | 第45-47页 |
| ·Zn_xFe_(3-x)O_4铁氧体薄膜静态磁性分析 | 第47-49页 |
| ·小结 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-52页 |
| 第四章 尖晶石型Ni_xFe_(3-x)O_4铁氧体薄膜制备与结构分析 | 第52-63页 |
| ·Ni_xFe_(3-x)O_4铁氧体薄膜反应液pH变化分析 | 第52-53页 |
| ·Ni_xFe_(3-x)O_4铁氧体薄膜成份分析 | 第53-54页 |
| ·Ni_xFe_(3-x)O_4铁氧体薄膜X射线衍射分析 | 第54-56页 |
| ·Ni_xFe_(3-x)O_4铁氧体薄膜扫描电镜分析 | 第56-58页 |
| ·Ni_xFe_(3-x)O_4铁氧体薄膜Ramna光谱分析 | 第58-59页 |
| ·小结 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-63页 |
| 第五章 结论 | 第63-65页 |
| 硕士论文工作期间发表的学术论文 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
