介质阻挡放电等离子体降解甲基橙的实验研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-25页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·印染废水的来源及特点 | 第12-13页 |
| ·印染废水的处理方法 | 第13-18页 |
| ·生物处理法 | 第13-15页 |
| ·化学氧化法 | 第15-16页 |
| ·吸附法 | 第16页 |
| ·电化学法 | 第16-17页 |
| ·超临界水氧化技术 | 第17页 |
| ·膜分离技术 | 第17-18页 |
| ·超声波技术 | 第18页 |
| ·介质阻挡放电等离子体技术 | 第18-23页 |
| ·等离子体技术 | 第18-20页 |
| ·介质阻挡放电技术 | 第20-21页 |
| ·放电等离子体的水处理技术原理 | 第21-22页 |
| ·放电等离子体的水处理技术研究现状 | 第22-23页 |
| ·论文研究内容和创新点 | 第23-25页 |
| ·研究内容 | 第23-24页 |
| ·本论文研究的创新点 | 第24-25页 |
| 第二章 实验器材与方法 | 第25-33页 |
| ·实验流程图 | 第25页 |
| ·实验装置图 | 第25-26页 |
| ·实验中所用到的仪器和试剂 | 第26-28页 |
| ·测试方法 | 第28-32页 |
| ·甲基橙浓度的测定 | 第28-29页 |
| ·COD的测定 | 第29页 |
| ·溶液pH值的测定 | 第29-30页 |
| ·溶液电导率的测定 | 第30页 |
| ·臭氧浓度的测定 | 第30-31页 |
| ·反应产物的检测 | 第31-32页 |
| ·其它活性物种的检测 | 第32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第三章 介质阻挡放电降解甲基橙废水 | 第33-51页 |
| ·放电时间对甲基橙降解率的影响 | 第33-37页 |
| ·初始浓度对甲基橙降解率的影响 | 第37-38页 |
| ·PH对甲基橙降解率的影响 | 第38-40页 |
| ·初始pH对甲基橙降解率的影响 | 第38-39页 |
| ·恒定pH对甲基橙降解率的影响 | 第39-40页 |
| ·电导率对甲基橙降解率的影响 | 第40-41页 |
| ·添加不同无机盐对甲基橙降解率的影响 | 第41-45页 |
| ·添加Na_2SO_4 对甲基橙降解率的影响 | 第41-42页 |
| ·添加NaCl对甲基橙降解率的影响 | 第42-43页 |
| ·添加Na_2CO_3 对甲基橙降解率的影响 | 第43-44页 |
| ·添加Fe~(2+)对甲基橙降解率的影响 | 第44-45页 |
| ·反应的COD降解率 | 第45-47页 |
| ·反应的TOC去除率 | 第47-48页 |
| ·DBD降解甲基橙的反应动力学分析 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-51页 |
| 第四章 甲基橙降解产物及历程分析 | 第51-70页 |
| ·介质阻挡放电过程中臭氧的分析 | 第51-57页 |
| ·臭氧的传递分析 | 第51-55页 |
| ·臭氧的物理吸收过程 | 第53-54页 |
| ·臭氧的化学吸收过程 | 第54-55页 |
| ·臭氧的浓度测定 | 第55-57页 |
| ·臭氧物理吸收过程浓度的测定 | 第55-56页 |
| ·臭氧化学吸收过程浓度的测定 | 第56-57页 |
| ·等离子体发射光谱检测 | 第57-60页 |
| ·纯水DBD发射光谱检测 | 第58页 |
| ·甲基橙溶液DBD发射光谱检测 | 第58-59页 |
| ·DBD发射光谱活性离子分析 | 第59-60页 |
| ·反应液相产物检测 | 第60-66页 |
| ·空白甲基橙溶液 | 第60-61页 |
| ·甲基橙溶液反应5 min的产物 | 第61-65页 |
| ·甲基橙溶液反应20 min的产物 | 第65-66页 |
| ·DBD降解甲基橙的反应历程 | 第66-68页 |
| ·本章小结 | 第68-70页 |
| 结论与展望 | 第70-72页 |
| 结论 | 第70-71页 |
| 展望 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-79页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80页 |
