| 中文摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-26页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 电致变色材料概述 | 第11-12页 |
| 1.3 电致变色器件 | 第12-16页 |
| 1.3.1 电致变色器件的结构及工作原理 | 第12页 |
| 1.3.2 透明导电层 | 第12-13页 |
| 1.3.3 金属氧化物电致变色层 | 第13-14页 |
| 1.3.4 电解质层 | 第14-15页 |
| 1.3.5 离子储存层 | 第15页 |
| 1.3.6 电致变色器件的研究进展 | 第15-16页 |
| 1.4 氧化镍电致变色薄膜 | 第16-19页 |
| 1.4.1 氧化镍薄膜材料的结构特点 | 第16-18页 |
| 1.4.2 氧化镍薄膜的变色机理 | 第18-19页 |
| 1.5 氧化镍电致变色薄膜的制备方法 | 第19-24页 |
| 1.5.1 化学气相沉积法 | 第19-20页 |
| 1.5.2 喷雾热分解法 | 第20-21页 |
| 1.5.3 脉冲激光沉积法 | 第21页 |
| 1.5.4 化学浴沉积法 | 第21页 |
| 1.5.5 溶胶凝胶法 | 第21-22页 |
| 1.5.6 电沉积法 | 第22页 |
| 1.5.7 磁控溅射法 | 第22-24页 |
| 1.6 论文的研究内容和方法 | 第24-26页 |
| 第2章 NiO薄膜的制备方法和性能表征手段 | 第26-31页 |
| 2.1 直流反应磁控溅射法沉积NiO薄膜 | 第26-28页 |
| 2.1.1 实验流程 | 第26页 |
| 2.1.2 直流磁控溅射技术 | 第26-28页 |
| 2.2 NiO薄膜结构的表征手段 | 第28-29页 |
| 2.2.1 X射线衍射仪(XRD) | 第28页 |
| 2.2.2 X射线光电子能谱仪(XPS) | 第28页 |
| 2.2.3 场发射扫描电子显微镜(SEM) | 第28-29页 |
| 2.2.4 台阶仪 | 第29页 |
| 2.3 NiO薄膜电致变色性能表征手段 | 第29-31页 |
| 2.3.1 电化学工作站 | 第29-30页 |
| 2.3.2 分光光度计 | 第30-31页 |
| 第3章 NiO薄膜的结构与电致变色性能研究 | 第31-71页 |
| 3.1 膜厚对NiO薄膜结构与电致变色性能的影响 | 第31-40页 |
| 3.1.1 膜厚对NiO薄膜结构的影响 | 第31-34页 |
| 3.1.2 膜厚对NiO薄膜电致变色性能的影响 | 第34-40页 |
| 3.2 氧氩流量比对NiO薄膜结构与电致变色性能的影响 | 第40-48页 |
| 3.2.1 氧氩流量比对NiO薄膜结构的影响 | 第41-43页 |
| 3.2.2 氧氩流量比对NiO薄膜电致变色性能的影响 | 第43-48页 |
| 3.3 溅射功率对NiO薄膜结构与电致变色性能的影响 | 第48-55页 |
| 3.3.1 溅射功率对NiO薄膜结构的影响 | 第48-51页 |
| 3.3.2 溅射功率对NiO薄膜电致变色性能的影响 | 第51-55页 |
| 3.4 沉积气压对NiO薄膜结构与电致变色性能的影响 | 第55-61页 |
| 3.4.1 沉积气压对NiO薄膜结构的影响 | 第56-57页 |
| 3.4.2 沉积气压对NiO薄膜电致变色性能的影响 | 第57-61页 |
| 3.5 基片温度对NiO薄膜结构与电致变色性能的影响 | 第61-69页 |
| 3.5.1 基片温度对NiO薄膜结构的影响 | 第62-64页 |
| 3.5.2 基片温度对NiO薄膜电致变色性能的影响 | 第64-69页 |
| 3.6 本章小结 | 第69-71页 |
| 第4章 NiO基电致变色器件的制备 | 第71-78页 |
| 4.1 NiO薄膜以KOH为电解质时循环寿命的研究 | 第71-74页 |
| 4.2 FTO/NiO/KOH/FTO电致变色器件的设计 | 第74-76页 |
| 4.3 本章小结 | 第76-78页 |
| 第5章 总结与展望 | 第78-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-86页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第86页 |
