摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第10-18页 |
1.1 多铁性材料的发展 | 第10-11页 |
1.2 多铁性磁电复合薄膜及其特性 | 第11-14页 |
1.3 BiFeO_3及BiFeO_3磁电复合薄膜的国内外研究现状 | 第14-17页 |
1.4 论文的研究内容及意义 | 第17-18页 |
第2章 样品的制备方法及表征手段 | 第18-24页 |
2.1 实验方法 | 第18-21页 |
2.2 表征手段 | 第21-24页 |
2.2.1 XRD分析 | 第21-22页 |
2.2.2 SEM分析 | 第22-23页 |
2.2.3 磁学性能分析 | 第23-24页 |
第3章 制备条件对BiFeO_3薄膜的结构及形貌的影响 | 第24-39页 |
3.1 不同基片对BiFeO_3薄膜的结构及形貌的影响 | 第26-28页 |
3.2 不同降温气氛对BiFeO_3薄膜结构的影响 | 第28-29页 |
3.3 降温压强对BiFeO_3薄膜结构的影响 | 第29-31页 |
3.4 溅射功率对BiFeO_3薄膜结构的影响 | 第31-32页 |
3.5 溅射压强对BiFeO_3薄膜结构的影响 | 第32-33页 |
3.6 基片温度对BiFeO_3薄膜的结构及形貌的影响 | 第33-36页 |
3.7 溅射时间对BiFeO_3薄膜结构的影响 | 第36-38页 |
3.8 小结 | 第38-39页 |
第4章 Fe_4N薄膜的制备及结构与性能分析 | 第39-47页 |
4.1 不同衬底及气体流量比对制备Fe_4N薄膜的影响 | 第39-46页 |
4.1.1 薄膜的制备 | 第39页 |
4.1.2 薄膜的表征 | 第39页 |
4.1.3 Fe-N薄膜的结构与磁学性能分析 | 第39-46页 |
4.2 不同沉积温度对Fe_4N薄膜结构的影响 | 第46页 |
4.3 小结 | 第46-47页 |
第5章 Fe_4N/BiFeO_3磁电复合薄膜的制备及表征 | 第47-52页 |
5.1 不同厚度BiFeO_3上生长的Fe_4N薄膜 | 第47-50页 |
5.1.1 XRD结果分析 | 第47-48页 |
5.1.2 SEM结果分析 | 第48-49页 |
5.1.3 VSM结果分析 | 第49-50页 |
5.2 小结 | 第50-52页 |
第6章 结论 | 第52-54页 |
第7章 企业实践 | 第54-56页 |
参考文献 | 第56-62页 |
致谢 | 第62-63页 |
作者简介 | 第63页 |
攻读硕士学位期间研究成果 | 第63页 |