摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第11-23页 |
1.1 离子交换膜的概念 | 第11-13页 |
1.1.1 离子交换膜基体材料 | 第11-12页 |
1.1.2 离子交换基团的种类 | 第12-13页 |
1.2 离子交换膜的分类 | 第13-14页 |
1.3 离子交换膜的应用 | 第14-16页 |
1.4 离子交换膜的制备 | 第16页 |
1.5 含氟阳离子交换膜的制备方法 | 第16-20页 |
1.5.1 等离子体改性 | 第16-17页 |
1.5.2 共混改性 | 第17-18页 |
1.5.3 辐照改性 | 第18-19页 |
1.5.4 化学接枝改性 | 第19-20页 |
1.6 本论文研究背景及内容 | 第20-23页 |
1.6.1 课题提出的背景 | 第20-21页 |
1.6.2 本实验研究内容及创新点 | 第21-23页 |
第二章 KOH碱处理制备PVDF/OMMT阳离子交换膜 | 第23-47页 |
2.1 实验原料与设备 | 第23页 |
2.1.1 实验仪器及设备 | 第23页 |
2.1.2 实验原料与试剂 | 第23页 |
2.2 PVDF/OMMT阳离子交换膜的制备方法 | 第23-25页 |
2.2.1 PVDF/OMMT基膜的制备 | 第23-25页 |
2.2.2 PVDF/OMMT碱处理膜的制备 | 第25页 |
2.2.3 PVDF/OMMT阳离子交换膜的制备 | 第25页 |
2.3 膜性能的测试与表征 | 第25-28页 |
2.3.1 膜面电阻的测量 | 第25-26页 |
2.3.2 膜阳离子选择透过率的测量 | 第26-27页 |
2.3.3 膜吸水率的测量 | 第27页 |
2.3.4 膜的溶胀度 | 第27页 |
2.3.5 傅里叶变换红外光谱(FT-IR)分析 | 第27-28页 |
2.3.6 扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第28页 |
2.3.7 X-射线衍射(XRD)分析 | 第28页 |
2.4 结果与讨论 | 第28-45页 |
2.4.1 PVDF/OMMT基膜碱处理 | 第28-33页 |
2.4.2 PVDF/OMMT碱处理膜的引发 | 第33-36页 |
2.4.3 被引发的PVDF/OMMT膜的接枝 | 第36-39页 |
2.4.4 酸添加剂对膜性能的影响 | 第39-40页 |
2.4.5 OMMT含量对膜性能的影响 | 第40-42页 |
2.4.6 膜的红外光谱分析 | 第42-43页 |
2.4.7 膜的扫描电镜分析 | 第43-45页 |
2.5 小结 | 第45-47页 |
第三章 Na_4SiO_4碱处理制备PVDF阳离子交换膜 | 第47-56页 |
3.1 实验原料与设备 | 第47页 |
3.1.1 实验原料与试剂 | 第47页 |
3.1.2 实验仪器及设备 | 第47页 |
3.2 PVDF阳离子交换膜的制备 | 第47-49页 |
3.2.1 Na_4SiO_4碱处理PVDF基膜的制备 | 第47-48页 |
3.2.2 PVDF阳离子交换膜的制备 | 第48-49页 |
3.3 膜性能的测试与表征 | 第49页 |
3.4 结果与讨论 | 第49-55页 |
3.4.1 PVDF阳离子交换膜的照片 | 第49-50页 |
3.4.2 膜的红外光谱分析 | 第50-51页 |
3.4.3 Na_4SiO_4含量对膜性能的影响 | 第51-52页 |
3.4.4 引发剂浓度对膜性能的影响 | 第52-53页 |
3.4.5 膜的扫描电镜分析 | 第53-54页 |
3.4.6 膜的XRD分析 | 第54-55页 |
3.5 小结 | 第55-56页 |
第四章 含氟离子交换膜在充电态钒正极电解液中的化学稳定性 | 第56-61页 |
4.1 实验试剂、药品与设备 | 第56页 |
4.2 含氟离子交换膜在充电态钒正极电解液中稳定性的测量 | 第56-57页 |
4.2.1 五价钒电解液的制备 | 第56-57页 |
4.2.2 离子交换膜在钒充电态正极电解液中稳定性的测量 | 第57页 |
4.3 在五价钒溶液中浸泡后膜性能的测量 | 第57页 |
4.3.1 膜面电阻及阳离子选择透过率的测量 | 第57页 |
4.3.2 膜的湿重损失测量 | 第57页 |
4.3.3 膜的湿重损失测量 | 第57页 |
4.4 结果与讨论 | 第57-60页 |
4.4.1 两种离子交换膜面电阻的稳定性比较 | 第57-59页 |
4.4.2 两种离子交换膜阳离子选择透过率的稳定性比较 | 第59页 |
4.4.3 两种离子交换膜湿重损失的比较 | 第59-60页 |
4.5 小结 | 第60-61页 |
第五章 结论 | 第61-62页 |
参考文献 | 第62-64页 |
在学研究成果 | 第64-65页 |
致谢 | 第65页 |