| 中文摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 1 综述 | 第8-18页 |
| 1.1 引言 | 第8-9页 |
| 1.2 TiO_2的结构和性质 | 第9-11页 |
| 1.3 掺杂TiO_2磁性、输运和光学性质的研究 | 第11-15页 |
| 1.3.1 掺杂TiO_2磁性的研究 | 第11-13页 |
| 1.3.2 掺杂TiO_2输运性质的研究 | 第13页 |
| 1.3.3 掺杂TiO_2光学性质的研究 | 第13-15页 |
| 1.4 本论文的思路及安排 | 第15-18页 |
| 2 样品制备及测试方法 | 第18-28页 |
| 2.1 引言 | 第18页 |
| 2.2 靶材的制备与基片的处理 | 第18-21页 |
| 2.2.1 靶材的制备 | 第18-21页 |
| 2.2.2 基片的处理 | 第21页 |
| 2.3 薄膜样品的制备 | 第21-22页 |
| 2.4 薄膜样品结构及性质的表征 | 第22-28页 |
| 2.4.1 薄膜样品厚度表征-光学轮廓仪 | 第22页 |
| 2.4.2 薄膜样品结构表征-X射线衍射仪 | 第22-23页 |
| 2.4.3 薄膜样品成分和价态表征-X射线光电子谱 | 第23-24页 |
| 2.4.4 薄膜样品能带结构表征-紫外光电子能谱 | 第24页 |
| 2.4.5 薄膜样品光学性质表征-紫外可见分光光度计 | 第24-25页 |
| 2.4.6 薄膜样品光电性质表征-电化学测量系统 | 第25页 |
| 2.4.7 薄膜样品磁学性质表征-超导量子干涉仪 | 第25-26页 |
| 2.4.8 薄膜样品输运性质表征-综合物性测量系统 | 第26-28页 |
| 3 V掺杂TiO_2薄膜结构、磁性及输运性质的研究 | 第28-38页 |
| 3.1 引言 | 第28页 |
| 3.2 实验方法 | 第28-29页 |
| 3.3 不同衬底对V掺杂TiO_2薄膜结构的影响 | 第29-32页 |
| 3.4 不同厚度V掺杂TiO_2薄膜结构、磁性及输运性质的研究 | 第32-37页 |
| 3.4.1 不同厚度V掺杂TiO_2薄膜结构的研究 | 第32-34页 |
| 3.4.2 不同厚度V掺杂TiO_2薄膜磁性的研究 | 第34-35页 |
| 3.4.3 不同厚度V掺杂TiO_2薄膜输运性质的研究 | 第35-37页 |
| 3.5 本章小结 | 第37-38页 |
| 4 V/N共掺杂TiO_2薄膜结构、磁性及光学性质的研究 | 第38-48页 |
| 4.1 引言 | 第38页 |
| 4.2 实验方法 | 第38-39页 |
| 4.3 V/N共掺杂TiO_2薄膜结构的研究 | 第39-41页 |
| 4.4 V/N共掺杂TiO_2薄膜磁性的研究 | 第41-42页 |
| 4.5 V/N共掺杂TiO_2薄膜光学性质的研究 | 第42-45页 |
| 4.6 本章小结 | 第45-48页 |
| 5 结论 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-56页 |
| 附录 | 第56-58页 |
| 在学期间的研究成果 | 第58-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
