首页--工业技术论文--自动化技术、计算机技术论文--自动化技术及设备论文--自动化元件、部件论文--发送器(变换器)、传感器论文

一维光子晶体磁场和温度传感的研究

摘要第4-5页
abstract第5-6页
第一章 绪论第9-21页
    1.1 课题研究背景和意义第9-10页
    1.2 光子晶体的特性及其应用第10-13页
        1.2.1 光子晶体的特性第10-12页
        1.2.2 光子晶体的应用第12-13页
    1.3 一维光子晶体传感技术的研究近况第13-17页
        1.3.1 一维光子晶体缺陷态传感器第13-15页
        1.3.2 一维光子晶体表面波传感器第15-16页
        1.3.3 一维光子晶体多孔硅传感器第16-17页
    1.4 一维光子晶体温度和磁场传感技术第17-19页
    1.5 本文的研究思路及主要内容第19-21页
第二章 一维光子晶体传感的基本理论和数值方法第21-28页
    2.1 一维光子晶体传感的基本理论第21-25页
        2.1.1 光学局域态的基本理论第21-22页
        2.1.2 DBR-Ag结构中OTS的形成机理第22-23页
        2.1.3 基于一维光子晶体光学局域态的传感机制和理论模型第23-25页
    2.2 光子晶体的数值计算方法第25-27页
        2.2.1 传输矩阵法第25-26页
        2.2.2 平面波展开法第26页
        2.2.3 时域有限差分法第26页
        2.2.4 有限元法第26-27页
    2.4 本章小结第27-28页
第三章 一维缺陷态光子晶体磁场和温度传感第28-43页
    3.1 一维缺陷态光子晶体传感结构和机制的设计第28-32页
        3.1.1 敏感材料选择第28-29页
        3.1.2 传感结构设计第29-30页
        3.1.3 传感机制第30-32页
    3.2 一维缺陷态光子晶体传感结构的基本性能第32-34页
        3.2.1 反射谱和电场特性第32-34页
        3.2.2 Q值特性第34页
    3.3 结构参数对反射谱的影响第34-39页
        3.3.1 一维光子晶体的周期数对反射谱的影响第35-37页
        3.3.2 缺陷层的厚度对反射谱的影响第37-39页
    3.4 一维缺陷光子晶体磁场和温度传感性能分析第39-42页
        3.4.1 一维磁流体缺陷光子晶体传感器的磁场传感特性第39-40页
        3.4.2 一维磁流体缺陷光子晶体传感器的温度传感特性第40-42页
    3.5 本章小结第42-43页
第四章 基于缺陷态和Tamm态的一维光子晶体磁场和温度双参量传感研究第43-66页
    4.1 一维光子晶体双参量传感结构和机制的设计第43-48页
        4.1.1 金属材料选择第43-44页
        4.1.2 传感结构和传感机制设计第44-45页
        4.1.3 传感结构的基本性能第45-48页
    4.2 结构参数对反射谱的影响第48-55页
        4.2.1 金属种类对反射谱的影响第48-49页
        4.2.2 周期层数对反射谱的影响第49-52页
        4.2.3 缺陷层的厚度对反射谱的影响第52-54页
        4.2.4 金属层的厚度对反射谱的影响第54-55页
    4.3 一维光子晶体缺陷态和Tamm态磁场和温度传感特性研究第55-61页
        4.3.1 一维光子晶体缺陷态和Tamm态传感器品质因数Q值特性分析第55-56页
        4.3.2 一维光子晶体缺陷态和Tamm态传感器灵敏度特性分析第56-61页
    4.4 磁场温度交叉灵敏的消除和双参量传感的线性拟合分析第61-62页
    4.5 一维光子晶体磁场和温度传感系统和传感器主要工艺第62-65页
    4.6 本章小结第65-66页
第五章 总结与展望第66-68页
参考文献第68-73页
附录1 攻读硕士学位期间撰写的论文第73-74页
附录2 攻读硕士学位期间申请的专利第74-75页
致谢第75页

论文共75页,点击 下载论文
上一篇:基于CPG的仿生机器鱼运动控制优化
下一篇:基于深度神经网络的面部表情识别研究与实现