摘要 | 第2-4页 |
abstract | 第4-5页 |
主要符号表 | 第6-10页 |
1 绪论 | 第10-26页 |
1.1 课题研究背景 | 第10-12页 |
1.2 等离子体负载条件下的电源控制研究现状 | 第12-14页 |
1.3 用于等离子体加工的脉冲技术研究现状 | 第14-19页 |
1.4 微弧氧化技术研究现状 | 第19-24页 |
1.5 本文的主要研究内容 | 第24-26页 |
2 磁控溅射靶电源电流控制策略研究 | 第26-39页 |
2.1 磁控溅射镀膜系统组成 | 第26-27页 |
2.2 磁控溅射靶电源电流控制策略 | 第27-33页 |
2.2.1 靶电源等效电路分析 | 第27-28页 |
2.2.2 靶电源电流控制系统 | 第28-30页 |
2.2.3 电压前馈补偿控制器设计 | 第30-32页 |
2.2.4 电流控制系统频域分析 | 第32-33页 |
2.3 仿真及实验验证 | 第33-38页 |
2.3.1 仿真结果分析 | 第34-35页 |
2.3.2 实验结果分析 | 第35-38页 |
2.4 本章小结 | 第38-39页 |
3 等离子弧切割电源电流预测控制研究 | 第39-59页 |
3.1 等离子弧切割电源系统结构及电弧管理过程分析 | 第39-42页 |
3.2 等离子弧切割电源的电流预测控制策略 | 第42-48页 |
3.3 用于Boost类型变换器的电流预测控制 | 第48-51页 |
3.4 电流预测控制方法仿真及实验研究 | 第51-53页 |
3.5 等离子弧切割实验研究 | 第53-58页 |
3.6 本章小结 | 第58-59页 |
4 非对称双极性脉冲变换器的研究 | 第59-86页 |
4.1 非对称双极性脉冲变换器基本原理 | 第59-60页 |
4.2 新型非对称双极性脉冲软开关变换器 | 第60-72页 |
4.2.1 ZVZCS-ABP脉冲变换器工作原理分析 | 第62-66页 |
4.2.2 软开关辅助网络参数分析 | 第66-68页 |
4.2.3 仿真与实验研究 | 第68-72页 |
4.3 基于耦合电感的非对称双极性脉冲变换器研究 | 第72-85页 |
4.3.1 耦合电感基本原理 | 第72-74页 |
4.3.2 基于耦合电感的单电源非对称双极性脉冲变换器研究 | 第74-81页 |
4.3.3 CL-ABP变换器仿真和实验研究 | 第81-85页 |
4.4 本章小结 | 第85-86页 |
5 微弧氧化负载条件下非对称双极性脉冲作用机理 | 第86-112页 |
5.1 微弧氧化系统结构 | 第86-87页 |
5.2 UPP脉冲对微弧氧化负载作用机理分析 | 第87-100页 |
5.2.1 UPP脉冲电场条件下负载模型 | 第87-91页 |
5.2.2 UPP脉冲作用下微弧氧化负载波形分析 | 第91-97页 |
5.2.3 ABP脉冲对微弧氧化影响机理分析 | 第97-100页 |
5.3 微弧氧化负载条件下的脉冲参数优化 | 第100-110页 |
5.4 本章小结 | 第110-112页 |
6 微弧氧化负载条件下能耗管理方法研究 | 第112-128页 |
6.1 微弧氧化陶瓷层生长特性分析 | 第112-117页 |
6.1.1 历史特性研究 | 第112-114页 |
6.1.2 平均特性研究 | 第114-117页 |
6.2 微弧氧化能耗管理方法 | 第117-121页 |
6.2.1 基于电流控制模式的微弧氧化能耗管理方法 | 第117-119页 |
6.2.2 基于CSM-MAO模式的能耗管理方法 | 第119-121页 |
6.3 CSM-MAO模式的工艺实验研究 | 第121-126页 |
6.3.1 陶瓷层增长速度 | 第121-122页 |
6.3.2 临界起弧电流密度和电能消耗 | 第122-123页 |
6.3.3 陶瓷层性能分析 | 第123-125页 |
6.3.4 浸入电压值对陶瓷层性能的影响 | 第125-126页 |
6.4 CSM-MAO模式应用于镁合金轮毂表面处理 | 第126页 |
6.5 本章小结 | 第126-128页 |
7 结论与展望 | 第128-130页 |
7.1 结论 | 第128-129页 |
7.2 论文中的创新点 | 第129页 |
7.3 展望 | 第129-130页 |
致谢 | 第130-131页 |
参考文献 | 第131-141页 |
攻读博士学位期间主要成果 | 第141-142页 |