| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 1 绪论 | 第10-13页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第10-13页 |
| ·ZnO的电学特性 | 第12页 |
| ·ZnO的光学特性 | 第12-13页 |
| ·ZnO的其它特性 | 第13页 |
| 2 ZnO薄膜的制备和表征 | 第13-29页 |
| ·ZnO薄膜的相关制备工艺 | 第13-24页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD) | 第14-15页 |
| ·磁控溅射(Magnetron Sputtering) | 第15-16页 |
| ·超声喷雾热解法(USP) | 第16页 |
| ·分子束外延(MBE) | 第16页 |
| ·金属有机物化学气相沉积(MOCVD) | 第16-24页 |
| ·ZnO薄膜的相关表征技术 | 第24-29页 |
| ·X射线衍射(X-ray diffraction) | 第25页 |
| ·霍尔效应测试(Hall Effect measurement) | 第25-28页 |
| ·光致发光谱(photoluminescence spectrum) | 第28-29页 |
| 3 MOCVD法制备Sb掺杂ZnO薄膜 | 第29-41页 |
| ·Sb掺杂ZnO薄膜的研究现况及相关理论 | 第29-32页 |
| ·不同衬底温度下ZnO薄膜的掺杂 | 第32-37页 |
| ·薄膜制备过程 | 第32-33页 |
| ·相应的表征与分析 | 第33-36页 |
| ·小结 | 第36-37页 |
| ·不同锑源流量下ZnO薄膜的掺杂 | 第37-41页 |
| ·薄膜制备过程 | 第37页 |
| ·相应的表征与分析 | 第37-40页 |
| ·小结 | 第40-41页 |
| 结论 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-46页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第46-47页 |
| 致谢 | 第47-49页 |
