| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 第一章 绪论 | 第7-13页 |
| 1.1 半导体激光器的发展 | 第7页 |
| 1.2 光栅外腔半导体激光器的结构 | 第7-9页 |
| 1.3 光栅外腔半导体激光器的工作原理 | 第9-11页 |
| 1.4 光栅方程 | 第11-12页 |
| 1.5 本章小结 | 第12-13页 |
| 第二章 光栅相移效应 | 第13-19页 |
| 2.1 光栅相移效应 | 第13页 |
| 2.2 外腔激光器中光束的相位与频率的关系 | 第13-14页 |
| 2.3 Littrow外腔激光器的光栅相移效应 | 第14-15页 |
| 2.4 Littman外腔激光器的光栅相移效应 | 第15-18页 |
| 2.5 Littrow和Littman外腔激光器的频率变化速率 | 第18页 |
| 2.6 本章小结 | 第18-19页 |
| 第三章 利用光栅相移效应实现光栅外腔激光器波长调谐的实验设计 | 第19-35页 |
| 3.1 实验器件的选择 | 第19-27页 |
| 3.1.1 激光器芯片的选择 | 第19-20页 |
| 3.1.2 光栅的选择 | 第20-21页 |
| 3.1.3 压电陶瓷的选择 | 第21-25页 |
| 3.1.4 测试设备的选择 | 第25-27页 |
| 3.2 实验平台的组建 | 第27-32页 |
| 3.2.1 Littrow实验平台的组建 | 第27-30页 |
| 3.2.2 Littman实验平台的组建 | 第30-32页 |
| 3.3 测试系统的组建 | 第32-34页 |
| 3.4 本章小结 | 第34-35页 |
| 第四章 Littrow和Littman外腔激光器无跳模调谐范围及频率变化速率测试结果与结论 | 第35-45页 |
| 4.1 实验系统及测试系统的调试 | 第35-39页 |
| 4.1.1 实验系统的调试 | 第35-37页 |
| 4.1.2 测试系统的调试 | 第37-39页 |
| 4.2 两种外腔结构的无跳模调谐范围 | 第39-41页 |
| 4.2.1 Littrow外腔激光器的无跳模连续调谐范围测量 | 第39-40页 |
| 4.2.2 Littman外腔激光器的无跳模连续调谐范围测量 | 第40-41页 |
| 4.3 两种外腔结构的频率变化速率 | 第41-43页 |
| 4.3.1 Littrow外腔激光器的频率变化速率 | 第41-42页 |
| 4.3.2 Littman外腔激光器的频率变化速率 | 第42-43页 |
| 4.4 本章小结 | 第43-45页 |
| 第五章 总结和展望 | 第45-46页 |
| 5.1 全文总结 | 第45页 |
| 5.2 展望 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-49页 |
| 在读期间发表的学术论文及研究成果 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50页 |
