摘要 | 第5-6页 |
abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第11-18页 |
1.1 选题背景及研究意义 | 第11-15页 |
1.1.1 X射线管的概述 | 第11-12页 |
1.1.2 场致发射X射线管概述 | 第12-13页 |
1.1.3 场致发射理论 | 第13-15页 |
1.2 CT用脉冲式场致发射X射线管的概述 | 第15-16页 |
1.3 本论文的主要内容及安排 | 第16-18页 |
第二章 CT用脉冲式冷阴极X射线管结构的设计与仿真 | 第18-42页 |
2.1 CT用脉冲式碳纳米管场致发射X射线管基本结构 | 第18-21页 |
2.1.1 碳纳米管场致发射X射线管基本结构 | 第18-20页 |
2.1.2 适用于脉冲式碳纳米管场致发射X射线管核心部件 | 第20-21页 |
2.2 脉冲式碳纳米管场致发射X射线管的技术指标 | 第21-23页 |
2.2.1 焦点大小 | 第21-22页 |
2.2.2 阳极靶面倾角 | 第22页 |
2.2.3 最大热容量 | 第22-23页 |
2.2.4 电参数 | 第23页 |
2.2.5 脉冲参数 | 第23页 |
2.3 碳纳米管场致发射X射线管电子枪结构仿真 | 第23-31页 |
2.3.1 Opera3D软件仿真简介 | 第23-24页 |
2.3.2 电子枪聚焦原理 | 第24-25页 |
2.3.3 碳纳米管场致发射X射线管阴影栅结构仿真 | 第25-28页 |
2.3.4 脉冲式碳纳米管场致发射X射线管电子枪结构初步仿真 | 第28-31页 |
2.4 聚焦极结构参数仿真与结果 | 第31-36页 |
2.4.1 聚焦极厚度对于阳极焦斑直径的仿真结果 | 第31-32页 |
2.4.2 聚焦极与栅极之间间距的仿真结果 | 第32-33页 |
2.4.3 聚焦极开口大小对焦斑直径尺寸的影响 | 第33-35页 |
2.4.4 双聚焦极间距对焦斑直径尺寸的影响 | 第35-36页 |
2.5 X射线管的优化仿真 | 第36-40页 |
2.6 优化电子枪结构 | 第40-41页 |
2.7 本章小结 | 第41-42页 |
第三章 碳纳米管阵列制备 | 第42-53页 |
3.1 碳纳米管简介 | 第42-44页 |
3.2 碳纳米管制备方法 | 第44-46页 |
3.2.1 电弧法 | 第44-45页 |
3.2.2 激光蒸发法 | 第45页 |
3.2.3 化学气相沉积法 | 第45-46页 |
3.3 基于碳纳米管的场致发射阵列 | 第46-47页 |
3.4 碳纳米管场致发射阵列的制备 | 第47-52页 |
3.4.1 焊接阴影栅 | 第47-48页 |
3.4.2 MW-PCVD法制备碳纳米管阵列 | 第48-52页 |
3.4.2.1 清洗硅片 | 第49页 |
3.4.2.2 光刻 | 第49-50页 |
3.4.2.3 蒸镀催化剂 | 第50页 |
3.4.2.4 焊接阴影栅 | 第50页 |
3.4.2.5 MW-PECVD法制备碳纳米管 | 第50-52页 |
3.5 本章小结 | 第52-53页 |
第四章 碳纳米管阴极的场发射特性测试 | 第53-60页 |
4.1 碳纳米管阵列场致发射性能测试 | 第53-55页 |
4.1.1 碳纳米管阵列场发射性能测试系统 | 第53-54页 |
4.1.2 碳纳米管场致发射阵列的老练 | 第54-55页 |
4.2 二极管结构的碳纳米管阵列场发射性能测试 | 第55-57页 |
4.3 三极管结构的碳纳米管阵列场发射性能测试 | 第57-59页 |
4.4 本章小结 | 第59-60页 |
第五章 脉冲式碳纳米管场致发射X射线管的制备测试与结果 | 第60-69页 |
5.1 脉冲式碳纳米管场致发射X射线管的的部件制备 | 第60-61页 |
5.1.1 碳纳米管场致发射X射线管阴极制备 | 第60页 |
5.1.2 碳纳米管场致发射X射线管栅极制备 | 第60-61页 |
5.1.3 碳纳米管场致发射X射线管聚焦极制备 | 第61页 |
5.1.4 碳纳米管场致发射X射线管阳极制备 | 第61页 |
5.2 制备碳纳米管场致发射X射线管 | 第61-62页 |
5.3 CT用脉冲式碳纳米管场致发射X射线管的测试 | 第62-68页 |
5.3.1 脉冲式碳纳米管场致发射X射线管I-V特性测试 | 第62-64页 |
5.3.2 碳纳米管场致发射X射线管的焦斑测试 | 第64-65页 |
5.3.3 脉冲式碳纳米管场致发射X射线管的成像测试 | 第65-68页 |
5.4 本章小结 | 第68-69页 |
第六章 总结与展望 | 第69-70页 |
致谢 | 第70-71页 |
参考文献 | 第71-74页 |